Gebraucht DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D #9132943 zu verkaufen

DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Durchführung von Ätz-, Muster- und Abscheidungsprozessen. Dieses System verfügt über eine proprietäre Doppelstrahleinheit, die modernste Elektronik und Optik für überlegene Verarbeitungsstabilität und Geschwindigkeit kombiniert. Die zwei Strahlmaschine ermöglicht die gleichzeitige Anzeige, Belichtung und Ätzung von vorne und hinten des Werkstücks. Es verfügt über ein erweitertes Quarzanzeigefenster, das es dem Bediener ermöglicht, die Ätz- und Fotoprozesse aus verschiedenen Blickwinkeln zu überwachen. Dieses Fotoresist-Tool ist mit einer vollautomatischen XY-Präzisionspositionierung und -verfolgung ausgestattet, die eine genaue Musterplatzierung unabhängig von der Form und Größe des Werkstücks gewährleistet. Es bietet hohe Geschwindigkeit Musterung Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für verbesserte Genauigkeit. Es bietet auch UV- und NIR-Belichtungssteuerungsfunktionen. Das Modell ist mit einem hochentwickelten Photodetektor integriert, der die Energiemenge, die die Werkstückoberfläche erreicht, jederzeit genau misst. Dies macht SCH-2003BEW-S-D besonders für die Verarbeitung anspruchsvoller Wafer mit unebenen Resistschichten geeignet. Zusätzlich nutzt die Anlage die II-VI-Beschichtungstechnologie für eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit im Ätzprozess. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche Belichtungssteuerungssoftware des Systems dem Bediener, die Energieniveaus, Pulsbreiten und Belichtungszeiten für wiederholbare Ergebnisse zu definieren. Mit seinen Hochgeschwindigkeitsmotoren unterstützt das Gerät die Chargenverarbeitung komplexer Komponenten mit höchster Genauigkeit. DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D verfügt auch über eine einzigartige Post-Exposure-Backfähigkeit, um eine gründliche Nachbelichtungshärtung und Erstarrung der Resistschicht zu fördern. Dies ist besonders nützlich für die Verarbeitung von temperatur- und zeitempfindlichen Anwendungen. Ein eingebetteter Photowiderstand hilft bei der genauen Berechnung der Energie- und photochemischen Eigenschaften der belichteten Waferoberfläche. Insgesamt bietet diese Fotolackmaschine von DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES die für die Verarbeitung anspruchsvoller Bauteile erforderliche Flexibilität und Leistung mit zuverlässiger Genauigkeit. Es ist auch hocheffizient und bietet verbesserte Ätz- und Musterfunktionen für schnellere Entwicklungszyklen.