Gebraucht DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCQR-2004V-M #9132942 zu verkaufen

DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCQR-2004V-M Photoresist Equipment ist ein hochmodernes Photolithographiesystem, das vielseitiges, hochpräzises Scannen kombiniert, um eine automatisierte und zuverlässige Musterlösung für die fortschrittliche Geräteherstellung bereitzustellen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Lithographieoperationen einschließlich klassischer Maskenausrichtung, Näherungsausrichtung und Strahlenbelichtung. Die Laser Diode Scanning Machine (LDSS) der Einheit ermöglicht Hochgeschwindigkeitsbetrieb und hervorragende Präzision, die in der heutigen Halbleiterindustrie entscheidend ist. SCQR-2004V-M Tool enthält ein einzigartiges Dual Auto-Alignment Asset (DAQS), das eine schnelle Ausrichtung der Maske und des Substrats ermöglicht. Dies ermöglicht maximale Effizienz beim Einrichten und Abschließen des Musterprozesses. Dank der proprietären Laserbildtechnologie von DAN-TAKUMA reduziert das DAQS die Ausrichtzeit im Vergleich zur herkömmlichen manuellen Ausrichtung erheblich. Das Modell verfügt auch über eine hochpräzise Hexagonal Steering/Catadioptric-Ausrüstung, die eine Kombination aus Reflexion und Brechung des Quelllichts verwendet, um einen fokussierten Lichtpunkt zu erzeugen und gleichzeitig Verzerrungen im Bild zu minimieren. Dieses System eignet sich ideal zur Herstellung feiner und geometrisch komplexer Strukturen, da es eine sehr gleichmäßige Belichtung des Musters auf dem Zielsubstrat ermöglicht. DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCQR-2004V-M Photolackeinheit ermöglicht es Benutzern, aus einer Vielzahl von Bildgebungsoptionen auszuwählen, einschließlich linearer, radialer und spiralförmiger Scanmuster. Es bietet auch variable Belichtungszeiten und Flexibilität bei der Einstellung von Belichtungsparametern. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, sich auf ihre eigenen Anwendungsanforderungen einzustellen, um qualitativ hochwertige und präzise Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus bietet die Maschine fortschrittliche Funktionen wie wellenlängenabhängige Belichtungsparameter, schrittweise Belichtungen und automatische Belichtungssteuerung. Dies ermöglicht eine schnelle und präzise Produktion hochauflösender Geräte ohne Qualitätseinbußen. SCQR-2004V-M Photoresist-Tool ist eine ideale Lösung für die Herstellung hochwertiger, präziser Muster. Es kombiniert eine Reihe vielseitiger Funktionen mit Hochgeschwindigkeitsbetrieb und hervorragender Präzision, um eine automatisierte, zuverlässige und innovative Plattform für die fortschrittliche Geräteherstellung zu bieten.