Gebraucht DELTA 4CJ #293628703 zu verkaufen

DELTA 4CJ ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von Hitachi Chemical Co., Ltd. entwickelt wurde, um überlegene Lichtempfindlichkeit und hohe Auflösung für die Herstellung von Leiterplatten (PCB) und Halbleiterbauelementen zu bieten. Das System besteht aus einer durch Lösungsmittel entwickelbaren negativ wirkenden Polymermatrix, die weniger von Feuchtigkeit und Chemikalien betroffen ist als die Photoresists der Konkurrenz. 4CJ Einheit bietet durch ihre modifizierte Matrix aus Silikon-basierten Polymeren, die gegen Wasser beständig ist und starke alkalische Lösungen, die zu einer frühen Verschlechterung anderer Photoresists führen können, eine überlegene Stabilität. Damit eignet sich DELTA 4CJ Maschine besonders gut für Hochtemperaturprozesse, die lange Lösungsmittelzyklen erfordern. Das in 4CJ enthaltene modifizierte Polyimid bietet zudem eine hervorragende Auflösung mit einer feinen Linienauflösung von bis zu 0,5 µm bei Lichteinwirkung. Die lösemittelentwickelbaren Polymere von DELTA 4CJ erfordern einfache Prozessbedingungen für optimale Leistung. Zur Auflösung genügt ein kurzer Schleuderzyklus von 10-20 Sekunden in wässrigen Alkalientwicklern im Bereich von 80-90 ° C. Ein Nachbacken bei 240º C für 30 Minuten beschleunigt die Entwicklung und verbessert die Ausbeute. Die Belichtung 4CJ Werkzeugs mit hochenergetischen UV-Lichtquellen, wie der EL-20B Lichtquelle, die im UV-Härtungszentrum verfügbar ist, führt zu einer schnellen Auflösung und einer kontrastreichen Bildentwicklung. DELTA 4CJ Asset ist hochresistent gegen Post-Exposure-Rückstände, was eine verbesserte Haftung nachfolgender Schichten aus leitfähigen Metallisierungs- oder dielektrischen Schichten ermöglicht und die Chance auf eine erfolgreiche Herstellung in Mehrschichtbaugruppen erhöht. Darüber hinaus verfügt 4CJ aufgrund seiner langlebigen Polymermatrix über eine ausgezeichnete Lebensdauer nach der Exposition und sorgt so für eine langfristig überlegene Leistung. Zusammenfassend ist DELTA 4CJ Modell aufgrund seiner überlegenen Auflösung und Stabilität eine ausgezeichnete Wahl für Hochleistungs-Leiterplatten- und Halbleiterherstellungsprozesse. Die lösemittelentwickelbare Art der Ausrüstung macht es auch einfach zu bedienen, während seine überlegenen Hafteigenschaften den Erfolg in komplexen Mehrschichtbaugruppen gewährleisten.