Gebraucht DELTA 5AQ #293628639 zu verkaufen

DELTA 5AQ, auch als Photoresist-Ausrüstung bekannt, ist eine Technologie, die bei der Herstellung kritischer mikroelektronischer Bauelemente eingesetzt wird. Diese Technologie wurde entwickelt, um es Technikern zu ermöglichen, dauerhafte, hochgenaue physikalische Merkmale auf verschiedenen Substraten kostengünstig zu erzeugen. 5AQ System ist ein fortschrittliches Lithographieverfahren, das Photopolymer-Mehrschichtresiste verwendet. Der Resist entsteht in flüssiger Form und wird als dünner viskoser Film auf das zu strukturierende Substrat aufgebracht. Nach dem Aufbringen des Resists wird das Substrat mit einer entsprechenden Belichtungswellenlänge des Lichts beaufschlagt. Diese Exposition löst eine chemische Reaktion aus, die den Zustand des Resistes verändert und ihn weniger löslich macht und schließlich den Resistfilm härtet. Nach dem Belichtungsvorgang ist es nun möglich, das Substrat durch selektives Wegwaschen des veränderten Resists zu strukturieren. DELTA 5AQ Einheit ermöglicht die Herstellung von sehr feinen und komplizierten physikalischen Eigenschaften auf dem Substrat durch die Kombination des dünnen Flüssigfilmresists, die präzise Belichtungswellenlänge und den präzisen Resist-Entwicklungsprozess. Darüber hinaus bietet 5AQ aussergewöhnliche Kantendefinition, Formelementmaßgenauigkeit und Prozessdurchsatz - und das alles zu geringen Kosten. DELTA 5AQ Photoresist-Maschine ist aufgrund ihrer robusten Leistung und Wirtschaftlichkeit zu einem wichtigen Werkzeug in der Mikroelektronikindustrie geworden. Es ermöglicht Technikern, schnell und präzise präzise physikalische Eigenschaften (bis zu 5 Mikrometer) auf dem Substrat zu erzeugen, die für die Leistung jedes Geräts unerlässlich sind. 5AQ Werkzeug bietet darüber hinaus eine hervorragende Wafer-zu-Wafer- und Schicht-zu-Schicht-Steuerung, die es dem Techniker ermöglicht, die kritische Dimension (CD) der Substrate für eine präzise Geräteherstellung zu steuern. Darüber hinaus bietet DELTA 5AQ asset im Vergleich zu herkömmlichen Systemen einen verbesserten Sicherheits- und Umweltschutz. Insgesamt bietet 5AQ Photoresist-Modell präzise physikalische Merkmale mit einem genauen und zuverlässigen Prozess zu einem erschwinglichen Preis. Es ist ein äußerst wichtiges Werkzeug in der mikroelektronischen Industrie und hat sich in den letzten Jahren zum Standard für die Geräteherstellung entwickelt.