Gebraucht DELTA 7EK #9395519 zu verkaufen

DELTA 7EK ist ein Photoresist-System für den Einsatz in der lithographischen Industrie. Photoresists sind UV- oder röntgenempfindliche photographische Materialien, die verwendet werden, um strukturierte Mikrostrukturen auf Halbleiterscheiben zu erzeugen. 7EK besteht aus zwei Komponenten: einer lichtempfindlichen Schicht (wie einem lichtempfindlichen Acryl, Epoxid oder Polyimid) und einem Entwickler/Substrat-Ätzmittel. Die lichtempfindliche Schicht wird auf ein Substrat abgeschieden und anschließend einer Energiequelle, wie UV oder Röntgenstrahl, ausgesetzt. Die Energiequelle bewirkt eine chemische Reaktion in der lichtempfindlichen Schicht, die sie im Entwickler/Substrat-Ätzmittel löslicher macht. Dieses Ätzmittel kann dann zur Entwicklung von Merkmalen auf der Substratoberfläche verwendet werden. Diese Merkmale werden typischerweise mittels einer Photomaske strukturiert, können aber auch direkt durch Belichten des Substrats mit der Energiequelle entwickelt werden. Um seine Effizienz zu maximieren, verfügt DELTA 7EK Photolacksystem über mehrere Merkmale: 1. Eine mehrschichtige Stapelarchitektur, die eine effizientere Strukturierung ermöglicht, indem feinere Formatgrößen auf einem Substrat erzielt werden können. 2. Eine antireflektierende Beschichtung auf dem Substrat, um die UV- oder Röntgenenergieabsorption in der Photoresistschicht zu maximieren. 3. Ein optimierter Entwickler/Substrat etchant Zusammensetzung dafür widersteht besser Musterentwicklung. 4. Ein „Weichbacken“ -Verfahren, das eine gleichmäßige Schichtdicke der Photoresistschicht und eine verbesserte Leistung gewährleistet. 5. Eine „Anti-Scumming“ -Behandlung, um die unerwünschte Abscheidung von Restphotoresist auf der Substratoberfläche zu minimieren. 7EK wurde entwickelt, um überlegene Musterergebnisse mit ausgezeichneter Auflösung, ausgezeichneter Oberflächenplanarität und überlegener Kantendefinition zu erzielen. Darüber hinaus ist es eine äußerst zuverlässige, kostengünstige Lösung für die Herstellung anspruchsvoller strukturierter Strukturen. Abschließend ist DELTA 7EK Photolacksystem eine zuverlässige, kostengünstige lithographische Lösung, die überlegene Musterergebnisse mit ausgezeichneter Auflösung, ausgezeichneter Oberflächenplanarität und überlegener Kantendefinition liefert. Es ermöglicht eine feinere Funktionsgröße und verbesserte Leistung durch seinen mehrschichtigen Stapel und antireflektive Beschichtung, optimierte Entwickler/Substrat Ätzmittelzusammensetzung und 'Weichbacken' und 'Anti-Scumming' -Prozesse.