Gebraucht DELTA DI Wafer Cleaner #293628705 zu verkaufen

DELTA DI Wafer Cleaner ist ein Photoresist-Gerät, mit dem Schichten abgeschiedener Materialien, Rückstände und Verunreinigungen schnell und zuverlässig von Substraten wie Halbleiterscheiben, Leiterplatten und anderen Dünnschichtträgern entfernt werden können. Das System nutzt patentierte Technologie, um verbesserte Reinigungsfunktionen bereitzustellen. Bei der Waferreinigung wird ein Lösungsmittel-Reinigungsschritt und ein Ozon-basierter Nachätzschritt verwendet. Der Lösungsmittel-Reinigungsschritt beinhaltet die Verwendung einer wirksamen Reinigungslösung, die über eine Düse abgegeben wird und die Oberfläche des Wafers beschichten läßt. Diese Lösung ist darauf ausgelegt, Rückstände des vorhergehenden Ätz- oder Abscheidungsprozesses schnell abzubauen und ein sauberes Substrat für die Weiterverarbeitung bereitzustellen. Nach Beendigung des Lösungsmittel-Reinigungsschrittes wird der Wafer durch einen Nachätzschritt auf Ozonbasis gebracht. Dieser Schritt nutzt Ozon (O3), um schnell abzubauen und zusätzliche Rückstände, die noch verbleiben können, einschließlich organischer Verbindungen und einiger anorganischer Verbindungen. DI Wafer Cleaner ist eine robuste und zuverlässige Maschine, die seinen Anwendern zahlreiche Vorteile bietet. Zunächst ist es in der Lage, beide Seiten des Wafers gleichzeitig zu reinigen, was die Zykluszeit erheblich reduzieren kann. Zweitens steht eine „Einweg“ -Version des Reinigers zur Verfügung, die Probleme der Kreuzkontamination beseitigt, indem jeder Reinigungszyklus mit einem frischen Wafer durchgeführt werden kann. Drittens ist die Maschine so konzipiert, dass sie schnell und einfach zu bedienen ist und somit eine ideale Wahl für Benutzer ist, die in kurzer Zeit hochwertige Ergebnisse benötigen. Da der Waferreiniger auf vollautomatischer Technologie basiert, entfällt schließlich die Notwendigkeit manueller Prozesse. Zusammenfassend ist DELTA DI Wafer Cleaner eine hervorragende Photolackeinheit, die darauf ausgelegt ist, Schichten abgeschiedener Materialien, Rückstände und Verunreinigungen schnell und zuverlässig von Substraten wie Halbleiterscheiben, Leiterplatten und anderen Dünnschichtträgern zu entfernen. Die fortschrittliche Reinigungsmaschine und die automatisierten vorprogrammierten Einstellungen machen es ideal für Benutzer, die in kurzer Zeit hochwertige Ergebnisse benötigen.