Gebraucht DMC SA/3m #143322 zu verkaufen
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ID: 143322
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2006
Wafer-level Electro Plating system, 8"
Used for Stamper and micro pattern electro-plating
Can be implement as high uniformity
Using cathode head rotating system can produce high-quality products
This equipment can be applied to MEMS type and performed on the trench fill electroplating
Process automation can be set with Independent program for each cell
Various plating condition can be set with Independent program for each cell
DC, pulse, pulse- reverse current can be supplied in the resolution ±1 mA
Ni, Ni-CO, Cu Electroplating can be performed with this equipment
Total solution volume: 500 liters
Features:
Small Footprint
Independent Pump/Filtration for each cell
Patented adjustable cathode head and workholder for precise control of thickness variation
Front access for maintenance
Integrated all-in-one design, integrated sump & electronics
Enclosed work area for process control
Industrial PC control with large flat panel touch-screen display
Switch mode rectifiers
Easy operator interface
All digital Control system
(Qty 3) Cells:
Pump: 1 HP
Heater: 6 kW
Rectifier: Standard 65 Amps, 24VDC
Filtration: 2 Stage
Pre-filter: 5 micron DOE, 20"
Final-filter: 0.45 micron DOE, 20"
Flow: 50 liter max (Adjustable)
2006 vintage.
DMC SA/3m ist eine hochmoderne photoresistbasierte Ausrüstung für präzise Lichtbelichtung. Dieses System wurde speziell für die Anforderungen fortschrittlicher Mikroschaltungs-Fertigungsprozesse entwickelt. Zu den Funktionen gehören hochgenaue Bildmaskenausrichtung, präzise manuelle Positionierung, eine leistungsstarke Röntgenquelle und hochauflösende Bildgebungsfähigkeit. DMC SA/3m erzeugt starke, konsistente Bilder durch den Einsatz seiner dreiachsigen motorisierten Glasfasermasken-Ausrichteinheit. Diese Maschine ermöglicht es, die bildgebende Position genau auszurichten und den Ausrichtungsführungsrahmen genau auf die Maske zu lokalisieren. Seine Hochleistungsquelle ist auch in der Lage, Licht mit hoher Intensität aus mehreren Winkeln bereitzustellen, wodurch eine gleichmäßige Beleuchtung auf einer einzigen Oberfläche gewährleistet ist. DMC SA/3m ist sehr präzise in seiner Positionierung. Es ist in der Lage, die genaue Position der Maske für jede Belichtung genau zu platzieren und zu messen, unabhängig von der Größe der Maske. Seine Röntgenquelle kann angepasst werden, um Multipass-Belichtungen bereitzustellen, um komplexere Bilder zu erstellen. Sein ultrahochauflösendes Bildgebungswerkzeug ist auch in der Lage, Informationen bis zu einer Auflösung von 5,2 Nanometern zu erfassen. Neben seinen Bildwiedergabefähigkeiten ist DMC SA/3m auch in der Lage, Beschichtungen durchzuführen und Prozessintegration zu entwickeln. Seine integrale Beschichtung ist so konzipiert, dass eine konsistente Bildauflösung über das gesamte Substrat gewährleistet ist. Seine Entwicklung Prozessintegration ermöglicht hochempfindliche Bildgebung auf großen Flächen. Dieses Modell kann auch in Kombination mit anderen Substrattechnologien wie Ätzen, Abscheiden und Lithographie verwendet werden. Insgesamt ist DMC SA/3m eine anspruchsvolle photoresistbasierte Ausrüstung für anspruchsvolle Mikroschaltungen. Es bietet präzise Bildpositionierung, mehrachsige motorisierte Maskenausrichtung und leistungsstarke Röntgenquellen. Seine bildgebenden Fähigkeiten sind hochauflösend und das System kann in Kombination mit anderen Substrattechnologien verwendet werden. Damit ist DMC SA/3m eine ideale Lösung für diejenigen, die Präzision und Genauigkeit in ihren Bildgebungs- und Fertigungsprozessen benötigen.
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