Gebraucht DMC SA/4m #143323 zu verkaufen

DMC SA/4m ist eine Photolackausrüstung von DuPont MicroCircuit Materials. Dieses System verwendet eine lichtempfindliche Polymerschicht auf organischer Basis und wird häufig bei der Herstellung von Kupfer- und Aluminiumsubstraten in elektrischen Leiterplatten und anderen elektronischen Anwendungen verwendet. DMC SA/4m Photolackeinheit besteht aus einer organischen Folie, die auf einem flexiblen Polyestersubstrat beschichtet ist. Diese Basisschicht bietet Steifigkeit und Schutz für die lichtempfindliche Polymerschicht. Die Polymerschicht enthält Harze, wie Polyimid, Polymethylmetacrylat, Polyacrylat, Polycarbonat und Polystyrol, die alle in verschiedenen Dicken auf der Basisschicht beschichtet werden können, um unterschiedliche Substratkonfigurationen aufzunehmen. Der Photolack wird mit Licht aktiviert, das eine photochemische Reaktion hervorruft, bei der bestimmte Bereiche belichtet werden, während andere geschützt sind. Die Schutzgebiete verbleiben in ihrer ursprünglichen Form, während die belichteten Bereiche je nach Zusammensetzung der Polymerschicht eine chemische Veränderung erfahren, die entweder löslich oder unlöslich wird. Die löslichen Polymerisate werden im Abwaschverfahren abgeätzt und anschließend die restlichen, unlöslichen Stellen chemisch abgemahlen. Dieser Prozess entfernt das unerwünschte Material und erzeugt die gewünschten For men für das Produkt. DMC SA/4m Photoresistmaschine wird typischerweise in einem Naßlaminierungsprozess mit einer gleichmäßigen Filmdicke, gefolgt von einer gründlichen Trocknung und chemischen Vorbehandlung, eingesetzt. Nach dem Aufbringen der Folie kann sie vor dem chemischen Ätzen mit einer Lichtquelle belichtet und entwickelt werden. Nach dem Entwicklungsprozess kann eine Qualitätskontrolle durchgeführt werden, um die gewünschte Konfiguration zu gewährleisten. Dieses Verfahren umfasst die Untersuchung des Filmmusters durch optische oder Röntgenmikroskopie sowie sekundäre Tests zur Messung der Genauigkeit und Integrität des Entwicklungsprozesses. Abschließend ist DMC SA/4m Photoresist-Tool eine fortschrittliche Bereicherung, die bei der Herstellung von Leiterplatten und anderen elektronischen Produkten verwendet wird. Seine Fähigkeit, Photolackfolien exakt zu belichten und zu entwickeln, bietet die notwendige Designgenauigkeit für die Herstellung von Qualitätsprodukten. Das Modell besteht aus einer flexiblen Basisschicht, einer lichtempfindlichen Polymerschicht und einem photolithographischen Verfahren mit verschiedenen Vorbehandlungen und Verfahren wie Lichtbelichtung, Entwicklung und chemisches Ätzen. Qualitätskontrollverfahren werden verwendet, um zu überprüfen, ob die strukturierte Folie während des gesamten Prozesses Spezifikationen erfüllt.