Gebraucht DNS / DAINIPPON 200W #293797341 zu verkaufen
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ID: 293797341
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Coater / Developer system, 8"
Spin Coater (SC):
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
Resist nozzle scan speed: 25-85 mm/s
Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min
Edge cleaner nozzle
Back rinse dispense flow: 50 mL/min
Cup material: PP, PPS
SUS304 Exhaust material
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
Spin Coater (SC) / T-ARC:
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
T-ARC Nozzle scan speed: 25-85 mm/s
Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min
Edge cleaner nozzle
Back rinse dispense flow: 50 mL/min
Cup material: PP, PPS
SUS304 Exhaust material
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
Spin developer:
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
Nozzle scan speed: 25-100 mm/s
Nozzle cleaning dispense flow: Maximum 1 L/min
Pure water rinse dipense flow: Maximum 2 L/min
Back rinse dispense output: 4 Line
Cup material: PP,
SUS304 Exhaust material
Drain: Liquid-vapor separation
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
UV Wafer Edge Exposure unit (EE):
Vacuum sensor
Image sensor detector
Source: 200 W, HG - Xe lamp
Illumination limit control: Feedback auto-control
Indexer:
Built-in SMIF
ASYST INX 2200 Indexer
Wafer detector
Cassette defector
POD Detector
1999 vintage.
DNS/DAINIPPON 200W ist eine von DNS Screen Manufacturing Co., Ltd. Es ist ein Photolacksystem, das die Erzeugung hochauflösender und komplexer Muster ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine einzigartige Kombination aus präzisen Schneid- und Schablonenfunktionen und bietet überlegene Gerätegenauigkeit und Benutzerfreundlichkeit. DNS 200W Photolackmaschine basiert auf zwei Basissystemen. Das erste Werkzeug ist das Photoresist-Asset, das die Herstellung kleiner hochauflösender Muster auf dem Substrat ermöglicht. Dieses Modell verwendet eine Kombination aus reaktivem Ionenätzen (RIE) und Photolithographieverfahren, um dünne Filme von Photoresists auf dem Substrat abzuscheiden. Die dünnen Filme aus Photoresist werden selektiv mit UV-Licht belichtet, das dann die photochemischen Reaktionen auslöst. Dies führt zur Abscheidung eines Photolackmusters auf dem Substrat, das dann selektiv in eine gewünschte Form überführt werden kann. Das zweite Gerät ist das Laserablationssystem DAINIPPON 200W, das die Herstellung präziser Schnitte und Muster auf der Oberfläche von Substraten ermöglicht. Die Einheit arbeitet, indem ein Laserstrahl auf den gewünschten Bereich auf dem Substrat gerichtet wird. Wenn der Laserstrahl das Substrat berührt, bewirkt er eine Verdampfung und Verdampfung der Materialien, was zu einem präzisen Schnitt oder Muster führt. Dieser Prozess ist hochgenau und wiederholbar und kann verwendet werden, um komplexe Arrays von Merkmalen zu erzeugen. Beide Systeme werden in 200W Maschine zu mikropatternierten Substraten kombiniert. Mit dem Photolackwerkzeug wird ein Photolackfilm auf dem Substrat hergestellt, der dann dem Laserstrahl zur Erzeugung eines angepassten Musters ausgesetzt wird. Durch eine präzise Steuerung sowohl des Fotoresistfilms als auch des Laserstrahls wird ein hochgenaues und wiederholbares Muster erreicht. Die Kombination dieser Verfahren führt zur Herstellung hochgenauer und einfach zu bedienender mikropatternierter Gerätekomponenten. DNS/DAINIPPON 200W Photoresist Asset ist weit verbreitet für Anwendungen wie Dünnschichttransistor-Arrays, integrierte Schaltungen, Solarzellen und Sensoren. Dieses Modell bietet eine ausgezeichnete Gerätegenauigkeit und Wiederholbarkeit und ist somit ideal für verschiedene Anwendungen geeignet. Darüber hinaus ist die Ausrüstung auch einfach zu bedienen und ist sehr kostengünstig, so dass es eine attraktive Option für viele Unternehmen.
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