Gebraucht DNS / DAINIPPON 200W #9277847 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 200W ist eine hochauflösende Photoresist-Beschichtungsanlage für die Entwicklung von Halbleiterbauelementen. Es ist ein flexibles und effizientes System, das sowohl für analytische als auch für Produktionsanwendungen geeignet ist. DNS- 200W-Einheit verwendet eine fortschrittliche LLI-Technik (Liquid-Resist Immersion Lithography), kombiniert mit Automatisierung, um eine hervorragende Leistung in einer Vielzahl von Waferbearbeitungen zu bieten. Die Maschine verwendet eine mehrschichtige, mehrstufige Photolackbeschichtung, die eine verbesserte Beschichtungsgleichförmigkeit und Dünnschichtbeschichtungseigenschaften bietet. Zusätzlich wird eine einzigartige Mikro-Fertigungstechnik eingesetzt, um minimale Linienbreitenvariationen aufgrund lokaler Unterschiede in der Resistbeschichtungsdicke oder Oberflächenrauhigkeit zu gewährleisten. Das Werkzeug verfügt über automatische Wafer-Ladedesign für bequeme Prozeßwiederholbarkeit. Die Anlage ist mit einem farbigen LCD-Monitor ausgestattet, der Zeit, Temperatur, Druck und andere wichtige Prozessdaten anzeigt. Darüber hinaus erleichtert eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche mit Design-Hint-Unterstützung das Musterdesign und macht es schneller. Das Modell bietet eine hervorragende Resisthaftung, ohne Resisteigenschaften zu verlieren, wodurch eine höhere Zeilenauflösung und ein konsistentes Resistprofil als andere Photolacksysteme erreicht werden. Das Gerät bietet auch eine große Auswahl an Fotoresistbeschichtungen, von positiven und negativen Metallen bis hin zu Säuren und wässrigen Resistlösungen. Darüber hinaus verfügt das System über eine robotergesteuerte Wafer-Handling-Technologie, um hochgenaue und automatische Silizium-Wafer-Montageprozesse zu ermöglichen. Besondere Beachtung fand bei der Konstruktion der DAINIPPON 200W Einheit zum Schutz der sauberen Umwelt. Um die Qualität der photolithographischen Verarbeitung im Reinraum sicherzustellen, ist die Maschine mit verschiedenen Filtern und Detektoren ausgestattet, um Staubpartikel und Feuchtigkeit im Reinraum kontinuierlich zu überwachen. Insgesamt bietet 200W Tool eine fortschrittliche, benutzerfreundliche Photolithographie-Bearbeitung mit einer breiten Palette von Beschichtungsmaterialien für eine Vielzahl von Waferbearbeitungen. Die automatisierte Handhabung von Wafern und die hervorragende Resisthaftung ermöglichen die Entwicklung hochauflösender Muster in einer sauberen Umgebung und sind somit eine gute Wahl für die Entwicklung und Produktion von Halbleiterbauelementen.