Gebraucht DNS / DAINIPPON 4-SC-80BW-AVE #293655891 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 4-SC-80BW-AVE Photoresist Equipment ist eine Negativton-Photoresist-Technologie. Es handelt sich um ein System zur Verwendung in Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen, das die Strukturierung von Schichten auf Photolacksubstraten ermöglicht. Der Name der Einheit bezieht sich auf die Abmessungen der Maschine, die vier mal acht Zentimeter groß ist und von DNS hergestellt wird. Dieses Photolackwerkzeug eignet sich für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsverfahren, einschließlich Dickschichtabscheidung, Dünnschichtätzen, Lithographie, Dielektrizitätsabscheidung und anderen derartigen Operationen. Die Anlage verfügt über ein Molekulargewichtskontrollmittel in Monomerqualität und eine antireflektierende Beschichtung, die verbesserte Fähigkeiten und eine subtraktive Fotoresistbildgebung ermöglicht. Dadurch ist sichergestellt, dass auf verschiedenen Substraten kleine Merkmale wie 0,1 µm-Leitungen erzeugt werden können. Das Modell wurde auch entwickelt, um die Reflexion zu minimieren, was einen ungleichmäßigen Widerstand zwischen den Schichten und eine verbesserte Genauigkeit zwischen den Mustern ermöglicht. Die Ausrüstung erfordert die Verwendung eines thermischen Heilfilms, da es sich um einen negativen Resist handelt. Dieser Film wird auf das Substrat aufgebracht, bevor der Photolack abgebildet wird. Die Folie schützt das Substrat während des Abbildungsprozesses vor Wärme, verhindert Resistmigration und hat zusätzlich den Vorteil einer verbesserten Ätzung. Sobald der Photolack abgebildet ist, kann das Substrat dann photonischen oder ionischen Prozessen ausgesetzt werden. Der thermische Mittel-Film ist auch so ausgelegt, dass der Resist entfernt werden kann, ohne den darunterliegenden Kreislauf und seine Komponenten zu beeinflussen. Dies geschieht durch die Anwendung eines Abschrägungsverfahrens, das auch auf gekrümmten Oberflächen zu einer verbesserten Resistentfernung führt. Darüber hinaus verfügt das System auch über Technologien wie Deep-UV-Belichtung, die verwendet werden, um die Genauigkeit und Auflösung der gemusterten Funktionen zu verbessern. Letztlich ist DNS 4-SC-80BW-AVE Photoresist Unit eine ideale Lösung für Halbleiterherstellungsprozesse, insbesondere bei der Strukturierung von Schichten auf Photoresistsubstraten. Die Maschine verfügt über ein Molekulargewichtskontrollmittel in Monomerqualität und eine antireflektierende Beschichtung, die dazu beiträgt, dass kleine Merkmale wie 0,1-Mikron-Linien präzise hergestellt werden können. Das Werkzeug schließt auch einen Thermalheilmittelfilm und tiefe-UV Aussetzungskontrolltechnologien ein, die das Substrat schützen und verbessert sichern, widerstehen Eliminierung.