Gebraucht DNS / DAINIPPON 60 #9271552 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 60 ist ein Photoresist-Gerät, das wässrige alkalische Lösungen verwendet und eine hohe Empfindlichkeit gegenüber ultraviolettem Licht bietet. Dieses System funktioniert, indem dünne Schichten aus mikrodünnem Film weggeätzt werden, um eine Photomaske zu schaffen, die eine präzise lithographische Steuerung ermöglicht. Zunächst wird das gewünschte Muster mit einem fusionierten Kieselsäuresubstrat ausgerichtet. Danach wird über dem Substrat eine zweite schmelzflüssige Kieselsäureschicht mit einer planarisierenden Schicht zugegeben, die es auf eine hochauflösende Bildgebung vorbereitet. Die vereinigten Schichten werden dann mit UV-Licht belichtet, das eine Photomaske erzeugt. Das Licht wird dann schnell herausgefiltert und die unbelichteten Bereiche werden weggeätzt, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Anschließend werden Photolackfilme auf das Substrat aufgebracht. Die Folien können zu gleichmäßigen Schichten geformt oder für gewünschte Eigenschaften, wie chemisch resistent, konstruiert werden. Die Photoresistfilme werden dann mit einem UV-härtbaren Harz belichtet und die verbleibenden unbelichteten Bereiche weggeätzt. Das verbleibende UV-härtbare Harz wird dann entfernt, um eine endgültige Photomaske zu schaffen, die für eine Vielzahl von lithographischen Anwendungen verwendet werden kann. Dieses Verfahren erzeugt Photomasken mit extrem feiner Auflösung im Vergleich zu anderen Photomasken, wodurch es für den Einsatz in der Halbleiterindustrie geeignet ist. Die Auflösung, die das Gerät erreichen kann, ermöglicht die Erstellung komplexer Formen, die unglaublich genau sind. Darüber hinaus ermöglicht seine alkalische Lösungsfunktionalität eine schnellere Verarbeitung und geringere Aktivierungsenergie als andere Photomasken. Die Maschine bietet auch einen guten Umweltschutz durch ihre Fähigkeit, Photomasken zu produzieren, die sowohl Anti-Strahlung als auch Anti-Kontamination sind. DNS 60 Photoresist-Tool ist ein zuverlässiges, robustes und zuverlässiges Asset, das für eine Vielzahl von lithographischen Anwendungen eingesetzt werden kann. Seine Vielseitigkeit, Präzision und alkalischen Lösungsfunktionen machen es zu einer beliebten Wahl für viele Unternehmen, die nach einer kostengünstigen und effizienten Möglichkeit suchen, Photomasken für eine Vielzahl von Zwecken schnell zu produzieren.