Gebraucht DNS / DAINIPPON 60A #9162931 zu verkaufen

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ID: 9162931
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1992
Developer system, 6" 1992 vintage.
DNS/DAINIPPON 60A ist eine chemische Lösungsentwicklungsanlage, die Photoresist-Technologie verwendet, um Präzisionsmuster auf Leiterplatten und Komponenten zu produzieren. Photoresist-Technologie ermöglicht die Bildung von hochdichten, komplexen digitalen Bildern auf sehr kleinen Taschen des Musters, indem die Strukturierung mit Licht gesteuert wird. Diese Technologie wird für eine Vielzahl von Anwendungen in der Elektronik-, Automobil-, Telekommunikations- und Luftfahrtindustrie eingesetzt. Der Grundmechanismus der Photoresisttechnik besteht darin, die Oberfläche der Platte oder des Bauteils mit einer als Photoresist bezeichneten chemischen Lösung zu bedecken, die reagiert, wenn sie ultraviolettem (UV) oder sichtbarem Licht ausgesetzt ist. Durch selektives Belichten des Photolacks mit Licht und Schatten über dem gewünschten Muster härtet der Photolack aus oder wird je nach Art des verwendeten Photolacks entfernt. Wenn der Photolack aus den Bereichen entfernt wird, die mit Licht belichtet wurden, wird das Muster des Photolacks dauerhaft in die Platte oder Komponente geätzt. DNS 60A eignet sich für Anwendungen, die höchste Auflösung und Genauigkeit erfordern. Es weist eine verbesserte Konzentration von Photolack auf, was zu einem hochpräzisen Muster von weniger als 1 Mikron führt. Darüber hinaus arbeitet das System mit einer hochentwickelten Liefereinheit, die eine sehr gleichmäßige Beschichtung der Photolacklösung auf kleinen Oberflächen erzeugt. Weitere Merkmale sind die Unterstützung mehrerer Schichten, die genaue Wiederholbarkeit auf aufeinanderfolgenden Schichten, eine verbesserte Prozesskontrolle und eine verbesserte Umweltkontrolle. Insgesamt ist DAINIPPON 60A eine fortschrittliche Photoresist-Technologie für Präzisionsmuster auf kleinen Oberflächen. Das Tool bietet eine höhere Auflösung, Präzision und Genauigkeit als andere Photolacksysteme und eignet sich daher besonders für komplexe Muster in der Luft- und Raumfahrt, Telekommunikation und anderen High-Tech-Branchen. Durch die Verwendung einer sehr gleichmäßigen Beschichtung von Photolacklösung und eines Mehrschichtprozesses ermöglicht das Asset auch einen schnellen Produktionsprozess.
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