Gebraucht DNS / DAINIPPON 60A #9162932 zu verkaufen

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ID: 9162932
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
Developer system, 6" 1996 vintage.
DNS/DAINIPPON 60A ist eine Photoresistanlage für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es wurde entwickelt, um hochauflösende Muster auf Siliziumscheiben mit Hilfe lichtempfindlicher Materialien bereitzustellen. Das System basiert auf einer PAA (Photoresist Acid-Antagonistic) -Technologie, die eine Kombination aus Photoresst-Vorläufern und alkalischen Komponenten darstellt. Diese Kombination ermöglicht feine Auflösungsmuster auf der Oberfläche des Wafers durch Steuerung der Lichteinwirkung auf den Photoresist. Die Einheit besteht aus dem Photolack, der Belichtungseinheit, dem Entwickler und einer Spinneinheit. Der in DNS- 60A verwendete Photoresist ist ein flüssiges Harz, das mit einem Oligomer gemischt wird, das auf Licht reagiert. Wenn der Wafer dem Licht ausgesetzt ist, bewirkt das Oligomer eine Änderung der Löslichkeit des Photolacks, wodurch bestimmte Bereiche durch eine Entwicklungslösung beeinflusst werden können. Die Belichtungseinheit besteht aus einer digitalen Projektionslinse, einer Blende, einer linearen Stufe, einer Quarzlampe und einer Steuerung. Diese Einheit projiziert Licht in verschiedenen Intensitäten und Winkeln auf den Wafer. Der Entwickler ist eine spezielle Lösung, die verwendet wird, um unerwünschte Bereiche von Photolack zu entfernen, so dass die gemusterte Fläche auf dem Wafer, wo das Licht belichtet worden war. Schließlich dient die Spinneinheit zum mechanischen Spinnen des Wafers mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit und Zeit, um die Oberfläche gleichmäßig mit dem Photolack zu beschichten. DAINIPPON 60A ist nützlich für die Herstellung von Halbleiterbauelementen mit hoher Genauigkeit und Effizienz. Es kann Präzisionsmuster mit einer minimalen Merkmalsgröße von 50 Nanometern erreichen. Die Maschine kann auch aufgrund ihrer Fähigkeit, mehrere Muster in einem einzigen Spin-Coating-Verfahren auf einen Wafer zu übertragen, einen hohen Durchsatz unterstützen. Darüber hinaus ist der Photolack umweltfreundlich, was für viele industrielle Anwendungen wünschenswert ist. Insgesamt ist 60A Photolackwerkzeug ein effektives und effizientes Werkzeug zur Erzeugung von Präzisionsmustern auf Halbleiterscheiben. Es ist einfach zu bedienen und kann Ergebnisse mit sehr feiner Auflösung produzieren. Darüber hinaus ist es umweltfreundlich, so dass es eine günstige Wahl für Branchen auf der Suche nach umweltfreundlichen Lösungen.
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