Gebraucht DNS / DAINIPPON 60A #9188819 zu verkaufen

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ID: 9188819
Wafergröße: 6"
Coater / Developer system, 6".
DNS/DAINIPPON 60A ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die für die schnelle Anwendung dünner und gleichmäßiger Beschichtungen auf breiten und großen Substraten entwickelt wurde. Dieses System ist eine hochmoderne Lösung für die Bedürfnisse der mikroelektronischen Fertigung, beispielsweise in der Halbleiterscheibenherstellung. Die Einheit besteht aus einer Reihe von Komponenten, einschließlich einer Hochleistungs-Ultraviolett (UV) -Lichtquelle, die die Geschwindigkeit des Abscheidungsprozesses erhöht und eine Kontrolle der Filmdicke ermöglicht. Um eine gleichmäßige Abscheidung zu gewährleisten, ist die Lichtquelle mit Scannern ausgestattet, die den Strahl in der Ebene bewegen und für eine optimale Abdeckung drehen. Ferner umfasst die Maschine eine Reihe von optischen Filtern sowie ein Quarzfenster, das die Übertragung des ausgewählten Wellenlängenbereichs optimiert. Darüber hinaus weist das Werkzeug eine Temperaturregelung auf, die eine gleichmäßige und reproduzierbare Beschichtung auf großen Substraten ermöglicht. Das Gut erleichtert auch die Warm-/Kaltaushärtung, was die Dickengleichmäßigkeit und die Stabilität des Photoresistfilms weiter verbessert. In diesem Modus beginnt das Verfahren mit dem Aufbringen von heißen Dämpfen, gefolgt von der Abkühlung des Substrats auf eine eingestellte Temperatur. All diese Eigenschaften machen dieses Fotolackmodell ideal für die Herstellung großer Wafer. Nach dem Aufbringen der Beschichtung kann sie dann einer UV-Lichtquelle ausgesetzt und mit Entwicklern wie DuPont 625F oder OSRAM TO/T2 entwickelt werden. Üblicherweise sind Photolacke sichtbar und haben eine Deckkraft. Der Photoresist DNS 60A ist jedoch so konstruiert, dass er für das menschliche Auge nahezu unsichtbar ist und eine präzise Filmabscheidung gewährleistet. Neben den hervorragenden Resisteigenschaften, die diese Ausrüstung über die integrierten Filter ermöglicht, bietet ihr Design auch eine erhebliche Flexibilität für den Einsatz in einer Reihe anderer Verfahren. Zum Beispiel unterstützt sein Design eine Vielzahl von maßgeschneiderten Lösungen, die von niedrigen bis zu hohen Temperaturen variieren. Darüber hinaus ist das System auf die Kombination mit einem Elektronenstrahl zur ultrahochauflösenden Abscheidung ausgelegt. DAINIPPON 60A ist eine zuverlässige und vielseitige fortschrittliche Photolackeinheit mit Funktionen und Anwendungen, die auf die Herstellung von Wafern zugeschnitten sind. Die Maschine bietet erhöhte Abscheidegeschwindigkeit, verbesserte Gleichmäßigkeit der Filmabscheidung und überlegene Flexibilität. Es ermöglicht dünne und gleichmäßige Beschichtungen und ermöglicht eine präzise Abscheidung empfindlicher oder komplexer Merkmale. Seine hohe Auflösung kombiniert mit wiederkehrenden Ergebnissen sorgen für zuverlässigen Betrieb und gleichbleibende Qualität. Machen Sie 60A zur idealen Lösung für die moderne Mikroelektronik-Fertigung.
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