Gebraucht DNS / DAINIPPON 629 #9218807 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 629 ist ein chromfreier, positiver UV-naher Photoresist, der speziell für lithographische Prozesse entwickelt wurde. Es handelt sich um einen fast UV-nahen Photoresist auf wässriger Basis, der in der Photolithographie eine höhere Auflösung bietet als herkömmliche organische Entwickler. Hauptbestandteil des Resists ist Polyvinylpyrrolidon (PVP), ein Polymer zur Verbesserung der wäßrigen Löslichkeit. Es enthält auch einen Photoinitiator, einen Katalysator, der es den anderen Komponenten ermöglicht, bei der Fotobelichtung schneller abzubauen. Außerdem enthält es einen Säuregenerator, wie Maleinsäure, der als Puffermittel wirkt. Der Resist weist auch eine alkalische Komponente wie Natriumhydroxid oder Kaliumhydroxid auf, was zur Verringerung der Oberflächenspannung des Resists zur Förderung der Haftung auf dem Substrat beiträgt. Darüber hinaus weist der Resist einen Katalysator, wie ein tertiäres Amin, auf, das eine Postexpositionsentwicklung bei Exposition gegenüber nahem UV-Licht ermöglicht. Der Schlüssel zum Erfolg der DNS 629 Photolackausrüstung ist die überlegene Haftung auf nichtleitenden Substraten. Es ist auch beständig gegen hohe Temperatur und Strahlung, so dass es geeignet für den Einsatz mit Hochtemperaturprozessen und in Gegenwart von Elektronenstrahlen (EB). Der Resist ist ein Negativton, d.h. die unbelichteten Teile des Resists werden bei der Entwicklung vom Entwickler weggelöst. Die belichteten Anteile bleiben jedoch weitgehend intakt, so daß sich ein zur Abscheidung der gewünschten Metallisierung bereitstehendes Muster ergibt. Der Resist kann auch die Substratoberfläche bei Ätzverfahren schützen. Der Haupteinsatz für das DAINIPPON 629 Photolacksystem ist die Herstellung von mikroelektronischen und optoelektronischen Geräten. Es kann auch in der Photomaskenherstellung, in der Herstellung integrierter Schaltungen und in anderen hochauflösenden Lithographieverfahren verwendet werden. Die Einheit ist auch in der Lage, niedrige und hohe Geometrien zu adressieren, und kann für verschiedene Arten von Substraten verwendet werden. 629 Photoresist-Maschine ist ein leistungsfähiges Werkzeug für die Geräteherstellung und bietet ausgezeichnete Leistung in Lithographie-Prozessen. Seine Haltbarkeit, seine ausgezeichnete Haftung auf nichtleitenden Substraten und seine Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und Strahlung machen es zu einer geeigneten Wahl für lithographieintensive Prozesse.