Gebraucht DNS / DAINIPPON 629 #9220518 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 629 ist ein negatives Photoresistsystem, das in der Photolithographie zur Herstellung von Halbleiterchips verwendet wird. Ein photoempfindliches Material namens Photoresist wird über den Wafer beschichtet und dann das gewünschte Muster durch eine Maske mit einer intensiven Lichtquelle belichtet. Die Bereiche, die dem Licht ausgesetzt sind, werden chemisch verändert, wodurch sie in einer Entwicklungslösung unlöslich sind, während die unbelichteten Bereiche löslich bleiben und weggewaschen werden. Dies ermöglicht die Erzeugung einer Schicht mit dem gewünschten Muster, die dann entweder direkt verwendet werden kann, wenn es sich um das Endprodukt handelt, oder als Schablone zum Ätzen des Designs in die darunter liegende Schicht dienen kann. DNS 629 ist eine fortschrittliche Variante von negativen Photoresistsystemen, die ein proprietäres Material verwendet, um höhere Dichten von Mustern zu erzeugen, mit komplizierten feinen Strukturen und mit größerer Zuverlässigkeit und Präzision. Das Material hat eine verbesserte Auflösungsfähigkeit - so dünn wie 0,5 Mikrometer - sowie eine verbesserte Empfindlichkeit und Genauigkeit im Vergleich zu anderen Photolackmaterialien. Die extreme Feinheit seiner Linie und die Genauigkeit seiner Auflösung macht DAINIPPON 629 System eine bevorzugte Wahl für eine Reihe von Prozessen, vor allem bei der Erstellung von kleinen oder sehr detaillierten Mustern. Es ist die häufigste Anwendung sind Halbleiterchips, Dünnschichtplatten und magnetische Aufzeichnungsköpfe. Die Technologie erfordert eine Kombination von Lichtquellen mit bestimmten Eigenschaften wie Lichtintensität, Belichtungszeit und Wellenlänge, um optimale Ergebnisse aus der Belichtung zu erzielen. Wenn die Lichtquelle korrekt ist, reagiert der Photolack entsprechend. Nach Abschluss des photolithographischen Prozesses ist der Wafer zur Weiterverarbeitung bereit. Der endgültige Wafer enthält ein Negativ, was auch immer das Design in der Maske gedruckt war. Diese negative Konstruktion kann dann geätzt oder anderweitig bearbeitet werden, um das eigentliche Produktmuster zu erzeugen, oder das Muster kann direkt verwendet werden. Insgesamt liefert das 629-System aufgrund seiner hohen Genauigkeit und Empfindlichkeit eine zuverlässige Photolithographie für die Herstellung von Halbleiterchips. Dies macht es zu einer beliebten Wahl in der Mikrochip-Industrie, vor allem für die Schaffung von sehr kleinen oder komplizierten Mustern.