Gebraucht DNS / DAINIPPON 629 #9272101 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9272101
Coater / Developer system, 6"
Specifications:
Variety: Coater
Loader / Unloader
Step motor driving system
Individual unit control
I/H Unit, 6"
Material of wafer handling arm: SUS304 (Modified)
Wafer loading method: Handling arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving system
Bake, 6"
Bake type: HP+CP (H.M.D.S)
Wafer loading method: Wire moving with cylinder
Spin unit (Develop):
Wafer size: 6"
Develop type: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size: 70 mm
Spin cup:
Upper: PolyPropylene resin, 8"
Lower: PolyPropylene resin
Nozzle type: Spray nozzle type
Exhaust control system
Spin cover: Transparent acrylic
Spin motor RPM: Maximum 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving: Moving with step motor
Spin unit (Coater):
Wafer size: 6"
Coating method: Rotation with spin motor (Maximum 6000 RPM)
P/R Discharge method: Bellows pump
Wafer chuck size: 70 mm
Spin cup:
Upper: PolyPropylene resin, 8"
Lower: PolyPropylene resin
2 Nozzle type (1/8") / Track
Exhaust control system: Manometer installed
Spin cover: Transparent acrylic
Spin motor RPM: Maximum 6000 RPM
P.R Dispense (maximum): 20 cc / 1 Stock
Waste liquid drain: Manual drain
Wafer moving: Moving with step motor
Bake:
Wafer size: 6"
Bake type: H.P 2-Stage
Bake temperature (maximum): 250°C
Wafer moving: Moving with cylinder
Utility specifications:
Main power:
AC 110 V / 30 A / Single phase
AC 220 V / 30 A / Single phase
Air pressure: 4~5 Kg/Cm²
N2 Pressure: 3~4 Kg/Cm²
Vacuum pressure: 60~70 Cm Hg
Spin exhaust: 100 mm (20 mm Hg)
Bake exhaust: 70 mm (20 mm Hg)
Variety: Develop
Composition
Loader I/H unit develop
I/H Unit unloader
Unit configurations:
Loader / Unloader
Wafer size: 6"
Step motor driving
Individual unit control
I/H Unit:
Wafer size: 6"
Material of wafer handling arm: SUS304 (Modified)
Wafer moving method: Arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving
Spin unit (Develop):
Wafer size: 6"
Develop method: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size: 70 mm
Spin cup:
Upper: PolyPropylene resin, 8"
Lower: PolyPropylene resin
Nozzle type: Spray nozzle type
Exhaust control system: Manometer installed
Spin cover: Transparent acrylic
Spin motor RPM: Maximum 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving method: Moving by step motor
Utility specifications:
Main power:
AC 110 V / 30 A / Single Phase
AC 220 V / 30 A / Single Phase
Air pressure: 4~5 Kg / Cm²
N2 Pressure: 3 ~ 4 Kg / Cm²
Vacuum pressure: 60~70 Cm Hg
Spin exhaust: 100 mm (20 mm Hg).
DNS/DAINIPPON 629 ist eine innovative Photoresist-Ausrüstung von DNS Screen Mfg. Co. Ltd., entwickelt, um die Effizienz der Fabrik zu verbessern und die Betriebskosten zu senken. Das System besteht aus drei Komponenten: einem Photolackmaterial, einem Entwickler und einer Belichtungsquelle. Das Photolackmaterial ist ein lichtempfindliches lösungsmittelgelöstes Polymer, das bei Belichtung mit bestimmten Lichtwellenlängen aushärtet. Der Entwickler wirkt als Lösungsmittel und entfernt das Photolackmaterial, wo es nicht belichtet wurde. Dadurch können Muster aus dem Photolackmaterial gebildet werden. Schließlich ist die Belichtungsquelle eine Bestrahlungseinheit, die eine bestimmte Wellenlänge des Lichts zur Belichtung des Photolackmaterials emittieren soll. Die Maschine sprüht einen Film des Photolackmaterials auf das Substratmaterial. Die Belichtungsquelle dient dann zur Belichtung des Photolackmaterials und der Entwickler zur Entfernung der nicht belichteten Bereiche des Photolackmaterials. Dadurch entstehen Muster, die für eine Vielzahl von Zwecken verwendet werden können, wie z.B. die Erstellung einer Schablone für den Siebdruck auf Textilien. DNS 629 Tool bietet mehrere Vorteile gegenüber herkömmlicher Photolithographie. Es erfordert weniger und kostengünstigere Komponenten, ist einfach einzurichten und erfordert weniger Wartung. Darüber hinaus ist das Photolackmaterial sehr genau und bietet nur ein Prozent Abweichung in den Mustern, die viel besser ist als die 3-5 Prozent Bereich in der traditionellen Photolithographie angeboten. Das Asset bietet zudem eine große Flexibilität bei der erfolgreichen Bedruckung komplizierter Muster. Es funktioniert gut mit einer Vielzahl von Substraten, von Papier und Stoff, Glas und Keramik, und kann eine breite Palette von Fotolack-Materialien mit Leichtigkeit behandeln. Alles in allem ist das Modell DAINIPPON 629 eine gute Wahl für Fabriken, die Kosten senken und die Effizienz verbessern möchten. Es kann komplexe und detaillierte Muster mit hoher Genauigkeit und Flexibilität produzieren, so dass es eine ideale Wahl für viele Anwendungen.
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