Gebraucht DNS / DAINIPPON 629 #9276179 zu verkaufen
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ID: 9276179
Wafergröße: 6"
Developer system, 6"
Loader / Unloader, 6"
Step motor driving system
Individual unit control
I/H Unit, 6"
Wafer handling arm material: SUS304
Wafer moving method: Arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving system
Developer spin unit, 6"
Develop type: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
Nozzle type: Spray nozzle
Exhaust control system: Manometer
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving: Step motor
Utilities:
Power supply:
AC, 110 V, 30 A, 1 Phase
AC, 220 V, 30 A, 1 Phase
Air pressure: 4 ~ 5 Kg/Cm²
N2 Pressure: 3 ~ 4Kg/Cm
Vacuum pressure: 60~70 CmHg
Spin exhaust: 100 mm (20 mmHg).
DNS/DAINIPPON 629 Photoresist ist eine einzigartige Art von Photolithographie-System für die Herstellung und elektronische Substratverarbeitung entwickelt. Dieses Gerät ist in der Lage, hochauflösende Funktionen mit ausgezeichneter Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit zu erzeugen. Die Maschine ist in vielen Branchen weit verbreitet, einschließlich der Herstellung verschiedener elektronischer Komponenten. DNS 629 Photoresist-Tool besteht aus mehreren Komponenten. Es verfügt über einen Reflexionsmasken-Aligner mit zwei optischen Kanälen, die Belichtungen über weite Bereiche ermöglichen. Zum Asset gehört auch ein automatisiertes Maskenbehandlungsmodell, das in der Lage ist, Masken automatisch auszutauschen und Maskenpositionen vor der Belichtung anzupassen. Auch ein Energiemanagement ist in das System integriert, so dass Anwender die Belichtungszeiten präzise managen können. Diese Photoresist-Einheit wurde entwickelt, um sowohl positive als auch negative Photoresists zu unterstützen und den Benutzern die Möglichkeit zu bieten, gewünschte Ergebnisse zu erzielen. Die Maschine verfügt über eine Auflösung von bis zu 0,25 µm und einen Stepper, mit dem Benutzer bis zu 4 x 4-Zoll-Substrate mit kontrollierbarer und gleichmäßiger Belichtungslichtintensität belichten können. Der Stepper bietet auch eine einstellbare Fokusregelung, so dass die Benutzer das Substrat im Werkzeug fokussieren können. Das Asset DAINIPPON 629 umfasst eine Entwickler-/Strippereinheit, die es Entwicklern ermöglicht, Photolackmuster zu gewünschten Merkmalen zu entwickeln und das Substrat bei Bedarf zu ätzen. Mehrere weitere Einheiten, wie eine Photodiodeneinheit und eine Strahlausrichtung, sind ebenfalls in das Modell integriert, wodurch die Ausrüstung hochautomatisiert und effizient ist. Darüber hinaus ist dieses System mit einer intuitiven Programmierschnittstelle benutzerfreundlich gestaltet, die eine einfache Programmierung des Geräts ermöglicht und dem Benutzer eine digitale Überwachung und Steuerung der Maschinenparameter ermöglicht. Es hat auch ein fortschrittliches thermisches Kontrollwerkzeug, das eine fortschrittliche Temperaturkontrolle für genaue Anwendungen bietet. Insgesamt bietet 629 Asset eine hohe Leistung, Genauigkeit und Wiederholbarkeit sowie eine breite Palette von Funktionen. Es eignet sich für eine Vielzahl von photoresistbasierten Anwendungen, so dass es eine ideale Wahl für Anwender ist, die an der Erhöhung der Produktqualität und der Minimierung der Produktionskosten interessiert sind.
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