Gebraucht DNS / DAINIPPON 636 #9226104 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON 636
ID: 9226104
Wafergröße: 6"
Coater / Developer systems, 6".
DNS/DAINIPPON 636 ist eine Hochleistungs-Photolackausrüstung, die für die Herstellung von Leiterplatten und Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Photoresists sind lichtempfindliche Polymerlösungen, die verwendet werden, um eine gemusterte Schicht auf einer Werkstückoberfläche zu erzeugen. Die Präzision dieses Musters bestimmt, wie effizient der Herstellungsprozess sein wird, und die Komplexität des Resists erübrigt die manuelle Strukturierung. Das System DNS 636 verfügt über eine breite Palette sensibilisierter Photoresist-Lösungen, die für selbst komplexeste Muster abgestimmt und angepasst werden können. Die erfindungsgemäße Resisteinheit nutzt eine Reihe von Photoinitiatoren und reaktiven Monomeren, die perfekt ausbalanciert sind, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Die reaktiven Monomeren arbeiten, um die Resistschicht in Position mit hervorragenden Hafteigenschaften zu verriegeln. DAINIPPON 636 Maschine ist für den Einsatz mit extremer ultravioletter (EUV) Strahlung, kurzwelliger Infrarot (SWIR) Laserstrahlung, tiefer ultravioletter (DUV) Strahlung und sogar sichtbarem Licht konzipiert. Dies ermöglicht es dem Anwender, Bereiche der Resistschicht selektiv freizulegen und dadurch selektiv Muster zu definieren. Das Werkzeug ermöglicht eine sehr hochauflösende Strukturierung mit Merkmalen von bis zu 0,2 Mikrometer Größe. Es bietet auch hervorragenden Linienkontrast und knackige Kanten zu den Mustergrenzen. Neben EUV- und DUV-Resist-Lösungen umfasst 636 Asset auch entwickelte Resist-Lösungen, die den Entwicklungsprozess beschleunigen sollen. Dies erleichtert das Wegätzen der unbelichteten Teile des Photolackmaterials, wodurch ein exakt strukturiertes Werkstück entsteht. Dieser hocheffiziente Prozess reduziert die Produktionszeit weiter, erhöht den Ertrag und reduziert den Abfall. Das Modell DNS/DAINIPPON 636 wurde unter Berücksichtigung von Kosteneffizienz und langfristiger Benutzerfreundlichkeit entwickelt. Hocheffiziente Resistlösungen können in den exakt benötigten Mengen hergestellt werden, was den Verbrauch weiter senkt. Das Gerät bietet zudem eine hervorragende Haltbarkeit, wobei die Resist-Lösungen bei ordnungsgemäßer Lagerung bis zu drei Jahre dauern. Darüber hinaus ist das System hochgradig konfigurierbar und kann an unterschiedliche Anforderungen an die Herstellung von Halbleiterbauelementen angepasst werden. Insgesamt ist die Photolackeinheit DNS 636 eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung komplexer Leiterplatten und Halbleiterbauelemente. Die breite Palette an Resist-Lösungen, umfassende Sicherheitsmerkmale und flexible Konfiguration machen es zu einer optimalen Wahl, um auch die anspruchsvollsten Produktionsziele zu erreichen.
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