Gebraucht DNS / DAINIPPON 80 A / 80 B #9161502 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80 A/80 B ist eine von DNS Screen Manufacturing Co. Ltd. und wird als Photolackmaterial für die Lithographie, hauptsächlich zur Herstellung von Silizium-Halbleiterbauelementen, verwendet. Das System besteht aus einem Fotolackfilm und einer Entwicklerlösung und wurde entwickelt, um eine hohe Auflösung, niedrige Kosten und Prozessintegrität für eine verbesserte lithographische Leistung zu bieten. Der Photolackfilm besteht aus einem polymeren Material in Form einer Suspension in einem organischen Lösungsmittel, typischerweise Methanol. Es enthält einen anionischen Photosensibilisator, eine photoaktive Verbindung und einen thermisch modifizierbaren Säurekatalysator. Bei Belichtung ordnen die photosensibilisierten Moleküle ihre Form zu einem sauren katalytischen Molekül um, das wiederum die Freisetzung eines polymerisierenden Radikals katalysiert, wodurch das polymere Material verhärtet und eine Resiststruktur bildet. Die Entwicklerlösung ist eine verdünnte Lösung auf wäßriger Ammoniakbasis, die einen Basenkatalysator und ein wäßriges polymeres Material vom Thioltyp enthält. Diese Lösung wirkt als Entsäuerungsmittel, das die beim Belichten des Photoresistfilms entstehende Resiststruktur neutralisiert und löst. Dies ermöglicht eine genauere Steuerung der belichteten Photolackschicht. Die Kombination dieser Komponenten bietet dem Gerät einzigartige Vorteile für lithographische Prozesse. Zunächst bietet das in der Fotoresistfolie verwendete Polymermaterial eine hochauflösende Bildgebung, die den Einsatz der Maschine für eine Vielzahl von Wafergrößen und Anwendungen ermöglicht. Zweitens ist die Entwicklerlösung sehr stabil und neigt dazu, langfristige Prozessintegrität mit minimaler Empfindlichkeit gegen Verschmutzung oder Alter zu bieten. Schließlich ist das Werkzeug relativ kostengünstig, was es zu einer attraktiven Option für kostengünstige Lithographieverfahren macht. Insgesamt bietet DNS 80 A/80 B Photoresist-Asset eine hohe Auflösung, niedrige Kosten und prozessintegriertes lithographisches Material für eine breite Palette von Halbleiterherstellungsanwendungen. Durch seine hervorragenden Abbildungs- und Stabilitätseigenschaften eignet sich das Modell hervorragend für eine Vielzahl von Prozessen, von integrierten Großchips bis hin zu integrierten Kleinschaltungen und von Speicherchips bis hin zum logischen Knotendesign.