Gebraucht DNS / DAINIPPON 80A #293658186 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80A ist eine negative Photoresist-Ausrüstung, die häufig in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es eignet sich für Mikrolithographie-, Beschichtungs- und Druckanwendungen. Photolacksysteme spielen eine Schlüsselrolle bei der Herstellung von mikroelektronischen Geräten und Leiterplatten. Photoresistsysteme verwenden Lichtstrahlung, um Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Bei DNS- 80A ist die Lichtquelle in der Regel eine Xenon-Lampe. Während der Lichtstrahl durch die Fotomaske geht und auf das Substrat trifft, wird ein Muster erzeugt. Je nach Art des Photolacks werden einige Moleküle zerstört und einige erhalten. DAINIPPON 80A System besteht aus einer Photolackschicht auf einem Substrat. Die Resistschicht wird dann mit einem Lichtstrahl belichtet, der durch eine Photomaske gefiltert wurde. Die Fotomaske enthält ein Muster aus undurchsichtigen und klaren Bereichen. Wenn das Licht durch die Photomaske gelangt, zerfällt es selektiv die Resistmoleküle und hinterlässt ein Muster belichteter und unbelichteter Bereiche auf dem Substrat. Sobald die Resistschicht freigelegt ist, wird sie entwickelt. Dabei wird der unbelichtete Resist mit einem Lösungsmittel entfernt, wobei ein Muster im Resist zurückbleibt. Dieses Muster kann dann als Schablone für einen weiteren Prozess, wie Ätzen oder Abscheiden, verwendet werden, oder es kann verwendet werden, um ein selbstjustiertes Routing über zu erstellen. Zusätzlich kann ein weiterer Abbildungsschritt durchgeführt werden, wenn mehr Strukturen erzeugt werden müssen. 80A Widerstandseinheit bietet eine hervorragende Auflösung und hohe Selektivität. Darüber hinaus ist es sehr stabil und kann unter rauen Prozessbedingungen, wie anisotropes Ätzen, eingesetzt werden. Darüber hinaus weist es eine geringe Absorption elektromagnetischer Energie auf, die seinen Einsatz in der Hochgeschwindigkeitsgerätebearbeitung ermöglicht. Abschließend ist DNS/DAINIPPON 80A Photolackmaschine ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug. Es bietet eine hervorragende Auflösung und Reproduzierbarkeit sowie eine sehr hohe Selektivität, die für die Produktivität der modernen Halbleiterherstellung wesentlich ist.