Gebraucht DNS / DAINIPPON 80A #9134994 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON 80A
ID: 9134994
Wafergröße: 8"
Photoresist (2) coaters / (2) Developers system, 8" Dual block IFB.
DNS/DAINIPPON 80A ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung zur Verbesserung der Druckqualität während der Lithographie-Stufe des Halbleiterherstellungsprozesses. Das System verfügt über eine lichtempfindliche Flüssigkeit, die auf Substratoberflächen wie Siliziumscheiben aufgebracht wird. Wenn Licht dieser Flüssigkeit ausgesetzt wird, aktiviert der Photolack und bleibt auf der Oberfläche. Mit diesem Resist werden dann während des Lithographieprozesses bestimmte Flächen auf der Oberfläche blockiert. DNS 80A Photoresist-Einheit verwendet eine einzigartige Formulierung, um überlegene Leistung zu bieten. Im Kern der Formulierung befindet sich ein Photolackmaterial auf Basis von Polymethylmethacrylat (PMMA), einem Acrylpolymer, das gegen eine Vielzahl von Bedingungen beständig ist, einschließlich ultraviolettem (UV) Licht. Dieser Fotolack bietet hervorragende optische Klarheit, hohe Auflösung, überlegene Schichtgleichförmigkeit und hervorragende Hafteigenschaften. Darüber hinaus bietet die Maschine eine große Kompatibilität mit positiven und negativen Mustersystemen. Neben der Photolackkomponente umfasst das DAINIPPON 80A Tool mehrere weitere Elemente, die einen optimalen lithographischen Prozess ermöglichen. Zu diesen Komponenten gehören ein Photoresist-Stripper, ein Verdünnungsmittel, ein wässriger Entwickler und eine Entwickler-Nachfülllösung. Der Photoresist Stripper wird verwendet, um die Entfernung des Resists aus dem Muster nach der Belichtung zu erleichtern, während das Verdünnungsmittel hilft, Partikel oder Trübung während des Beschichtungsprozesses zu reduzieren. Der wässrige Entwickler hilft dabei, das Muster chemisch auf das Substrat zu „ätzen“ und die Nachschublösung hilft, die Reproduzierbarkeit der Formulierung über mehrere Zyklen zu erhalten. Insgesamt ist 80A Photoresist Asset ein zuverlässiger und effizienter Weg, um hochauflösendes Drucken während des lithographischen Herstellungsprozesses zu erreichen. Mit dem fortschrittlichen PMMA-Fotolack bietet das Modell hervorragende Klarheit, Gleichmäßigkeit und Adhäsionseigenschaften. Darüber hinaus tragen die anderen Komponenten wie Verdünnungsmittel, Entwickler und Nachschublösung dazu bei, dass das Muster präzise auf das Substrat gedruckt wird. Zusammen machen diese Funktionen und Komponenten DNS/DAINIPPON 80A eine ideale Wahl für Lithographieprogramme.
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