Gebraucht DNS / DAINIPPON 80A #9262878 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80A ist eine Photoresistausrüstung, die in der Halbleiter- und Elektronikindustrie eingesetzt wird. Es ist ein fortschrittliches, leistungsfähiges Photolacksystem, das eine hohe Präzisionsauflösung und hervorragende Ergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen liefert. Das Gerät ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiterverarbeitungs- und Elektronikanwendungen wie einstufiges Metallätzen und Isolieren, über Ätzen, Profilsteuerung und hohe Seitenverhältnisse ausgelegt. Es ist besonders beliebt für Anwendungen, die hohe Auflösung und hohes Seitenverhältnis ätzen erfordern. DNS 80A Photolackmaschine besteht aus zwei Komponenten. Die erste Komponente ist die Chemikalie, die ein Gemisch aus Chemikalien und einem Fotofilterkatalysator ist. Durch diese Mischung kann Licht durch das Material hindurchgelassen und von der Chemikalie absorbiert werden, wodurch Photomasken geätzt werden. Die zweite Komponente ist die Fotomaske, die die Muster enthält, die geätzt werden müssen. Die Fotomaske ist in der Regel ein negatives Bild, das das Licht durchlässt und das gewünschte Ätzmuster erzeugt. Das Photolackwerkzeug kann sowohl mit nassen als auch mit trockenen Verarbeitungstechniken verwendet werden. Bei der Nassverarbeitung wird die Chemikalie mit Wasser vermischt und anschließend auf das Substrat aufgetragen. Nach dem Aufbringen wird mit einer Lichtquelle das gewünschte Muster belichtet und die Chemikalie wandelt sich in ihre unlösliche Form um, wodurch das Muster in das Substrat geätzt werden kann. Bei trockener Verarbeitung wird die Chemikalie direkt auf das Substrat gesprüht und dann der Lichtquelle ausgesetzt. Dies erzeugt den gleichen Effekt wie bei der Nassverarbeitung, vermeidet aber den zusätzlichen Schritt des Wasserauftrags. DAINIPPON 80A Photoresist bietet hervorragende und präzise Ergebnisse mit einer breiten Palette von Substratmaterialien wie Silizium, Metallen und Polymeren. Das Modell kann mit einer Vielzahl von Lichtquellen wie UV, Leuchtdioden (LEDs) und Ionenstrahlquellen verwendet werden. Darüber hinaus ist es mit einer Reihe von Ätzmitteln und Stripplösungen kompatibel. Die Ausrüstung ist einfach zu bedienen und liefert jedes Mal konsistente und genaue Ergebnisse. Darüber hinaus ist es sehr kostengünstig und kann mit einer Vielzahl bestehender Photomasken-Systeme verwendet werden. Das System kann auch mit einer Reihe von Ätzmitteln und Stripplösungsmitteln verwendet werden, was noch mehr Vielseitigkeit ermöglicht. Schließlich ist das Gerät so konzipiert, dass es mit einer Reihe von Substratmaterialien kompatibel ist und eine überlegene Auflösung und Leistung des Seitenverhältnisses bietet.