Gebraucht DNS / DAINIPPON 80B #9022469 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80B ist eine hochleistungsfähige automatisierte Photoresist-Beschichtungsanlage, die in der Halbleiterwaferbearbeitung verwendet wird. Es ist für außergewöhnlich genaue und einheitliche Resist-Anwendung konzipiert. Das System kombiniert mehrere Technologien, darunter automatische Resist Dispense, Wafer Mapping, manuelle oder automatische Wafer Transfer und konfigurierbare Kavitation. Die automatische Resist-Dispense-Technologie des Geräts wurde entwickelt, um eine Vielzahl von heißen und kalten Resists mit höchster Effizienz genau zu messen, zu steuern und auszugeben. Es verfügt über eine Vielzahl von Ausgabeköpfen, einschließlich eines omnidirektionalen Abgabekopfes, zur gleichmäßigen Abdeckung des Widerstands über der Oberfläche des Wafers. Die Maschine wird von einem Computer gesteuert, so dass der Bediener die Ausgabeparameter einstellen und überwachen kann. Die Wafer-Mapping-Funktion von DNS 80B verwendet einen Laserscanner, um die Resist-Schicht auf dem Wafer genau zu messen und abzubilden. Dies hilft, Inkonsistenzen während des Beschichtungsprozesses zu beseitigen und dem Benutzer die Möglichkeit zu geben, benutzerdefinierte Zuordnungsparameter für jeden Wafer festzulegen. Das Wafer-Übergabewerkzeug ermöglicht eine manuelle oder automatisierte Übertragung der Wafer von der Abgabestation in die Belichtungskammer. Das automatisierte Asset verwendet einen Robotikarm, um die Wafer schnell zu bewegen, während das manuelle Modell einen menschlichen Bediener erfordert. Schließlich beinhaltet DAINIPPON 80B auch eine konfigurierbare Kavitationsausrüstung. Kavitation ist der Prozess der Entfernung von überschüssigem Resist von der Waferoberfläche, und es kann helfen, die Gleichmäßigkeit des Films zu verbessern. Die Kavitationseinheit des Systems kann konfiguriert werden, um die Intensität des Kavitationsprozesses zu steuern, so dass der Benutzer die Resistgleichförmigkeit an seine genauen Spezifikationen anpassen kann. Insgesamt ist 80B eine zuverlässige und präzise automatisierte Photoresist-Beschichtungsmaschine, die konsistente und gleichmäßige Resistschichten auf Halbleiterscheiben erzeugt. Mit seinen hochpräzisen Dosier-, Wafer-Mapping- und Kavitationsmöglichkeiten bietet es eine zuverlässige, effiziente und präzise Möglichkeit, Wafer zu beschichten.