Gebraucht DNS / DAINIPPON 80B #9190791 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80B ist eine hochmoderne Photolackanlage, die in der Halbleiterherstellung eingesetzt wird. Das System bietet Präzisionsunterstützung für die Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterbauelementen, einschließlich Transistoren, Kondensatoren und Widerständen. Das Gerät verwendet hochwertigste Photolackmaterialien, die speziell für die Herstellung von Halbleiterprodukten formuliert wurden. Der Photolack wird mit einer speziellen Walzenbeschichtungstechnik auf ein Substrat aufgebracht, wodurch eine gleichmäßige Verteilung der Materialien über die gesamte Oberfläche gewährleistet ist. Dieser Beschichtungsprozess ermöglicht es dem Photolack, als wasserdichte Barriere zu wirken und verhindert, dass korrosive Chemikalien, die während des Herstellungsprozesses verwendet werden, in das Substrat eindringen. DNS 80B verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterherstellung machen. Es hat verschiedene Spritzpistolen mit einstellbaren Nadelbreiten, eine Wafer-Indexiermaschine, um eine genaue Positionierung der Wafer und ein Retikle-Inspektionswerkzeug sicherzustellen. Durch diese Merkmale wird sichergestellt, daß der auf dem Substrat aufgebrachte Photolack die notwendige Abdeckung und Dicke aufweist, um die gewünschten elektrischen Eigenschaften zu erzielen. Die Anlage bietet auch eine breite Palette von Photolackmaterialien mit unterschiedlichen Widerständen, um die spezifischen Anforderungen jedes Halbleiterherstellungsprozesses zu erfüllen. Die verwendeten Materialien sind alle für den Einsatz bei der Herstellung integrierter Schaltungen zugelassen und mit vielen Anwendungen wie Lithographie, Ätzen und chemischer Dampfabscheidung kompatibel. Die Materialien können so angepasst werden, dass sie mit zusätzlichen Anwendungen und Behandlungen kompatibel sind. DAINIPPON 80B ist ein beeindruckendes Modell, das präzise Unterstützung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Die Ausrüstung sorgt für konsistente Ergebnisse, überlegene Abdeckung und Kompatibilität mit mehreren Anwendungen und Behandlungen. Seine Reihe von Funktionen macht es eine ideale Wahl für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen.