Gebraucht DNS / DAINIPPON 80B #9250084 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80B ist eine wasserbasierte Photoresist-Ausrüstung für großformatige Lithographieanwendungen. Das System nutzt eine hochauflösende Photoresist-Emulsion, die für einen weiten Wellenlängenbereich lichtempfindlich ist. Der Photolack wird so formuliert, dass er sehr feine Muster erzeugt, wenn er ultraviolettem Licht ausgesetzt ist. Die Einheit besteht aus einem Entwickler, einem Bindemittel und einer Vier-Komponenten-Photolack-Lösung. Der Entwickler ist eine Basislösung, die verwendet wird, um überschüssigen Photoresist, der die Oberfläche für den Belichtungsprozess belichtet, abzuspülen oder zusätzlichen Schutz hinzuzufügen, ohne den Belichtungsprozess zu beeinträchtigen. Das Bindemittel bindet den Photolack an die Oberfläche und liefert ein dauerhaftes Bild für Ätz- und andere Prozesse. Die Photoresistlösung ist eine optisch aktive Emulsion mit Photokatalysator, Sensibilisator und Stabilisatoren. Der Photokatalysator verbessert die Lichtempfindlichkeit und erhöht den Feststoffgehalt, während der Sensibilisator die Empfindlichkeit des Photokatalysators verstärkt. Die Stabilisatoren verlängern die Haltbarkeit und verbessern die Resistqualität. Die Maschine verfügt über ein relativ breites Belichtungsfenster, das eine Belichtungszeit von bis zu 1,5 Minuten pro Quadratfuß ermöglicht. Dies ermöglicht eine hohe Geschwindigkeit und Qualität der lithographischen Bildgebung, die für umfangreiche Druckanwendungen erforderlich ist. Darüber hinaus ermöglicht die dynamische Empfindlichkeit des Werkzeugs eine genaue Darstellung eines breiten Farbspektrums. Der bildgebende Prozess basiert auf den einzigartigen Eigenschaften jeder Lösung und Emulsion, um konsistente Ergebnisse zu liefern. Durch die gemeinsame Verwendung von Entwickler und Bindemittel wird die Photolackschicht stabiler und gleichmäßiger gestaltet. Dies verhindert, dass sich schwache Bilder entwickeln, die unerwünschte Muster verursachen können. Weiterhin ergibt sich durch die chemische Reaktion zwischen Sensibilisator und Photokatalysator eine genaue Darstellung des gewünschten Musters. Die alkalischen Eigenschaften der Anlage helfen auch, die für den Trocknungsprozess benötigte Zeit und Temperatur zu reduzieren. Die Geschwindigkeit und Temperatur des Trocknungsprozesses ist entscheidend für die Vermeidung von Schlieren oder Verzerrungen im Material. Darüber hinaus entfällt durch die ungiftige Lösung auf Wasserbasis die Notwendigkeit einer Reihe gefährlicher Chemikalien und eine wesentlich sicherere Arbeitsumgebung. Insgesamt ist DNS 80B Modell eine zuverlässige und sichere Wahl für lithographische Anwendungen. Sein breites Belichtungsfenster und seine dynamische Empfindlichkeit bieten eine hochwertige Bilddarstellung, während seine wasserbasierte Emulsion einen schnellen und effizienten Druckprozess bietet.