Gebraucht DNS / DAINIPPON 80B #9257028 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80B ist eine Photolackausrüstung, die speziell für den Einsatz in der Druck-/Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieses System ist eine lösungsmittelbasierte Einheit und eine fortschrittliche Materialentwicklung in der Lithographie, die sowohl für negative als auch positive Photoresists eingesetzt werden kann. Der Photoresist von DNS 80B besteht aus zwei Komponenten, einem Polystyrolharz und einem Monomer. Das Polystyrolharz stammt aus einem 100% Styrolmonomer, während das Monomer aus modifiziertem Styrol mit einem halogenhaltigen Material besteht. Mit diesen beiden Komponenten können die mechanischen und chemischen Eigenschaften des Materials an spezifische Anwendungsanforderungen angepasst werden. Die Komponenten der Photolackkombination erfüllen zwei wichtige Aufgaben bei Belichtung. Zunächst nimmt das Polystyrolharz die Energie aus der Belichtung (Licht) auf und baut die Vernetzung der Ketten auf. Dies bewirkt eine Aushärtung des Photolacks und erzeugt das erforderliche Muster, das auf das Substrat aufgedruckt wird. Das Monomer im Photolack ist für eine andere Eigenschaft verantwortlich. Wenn es UV-Licht ausgesetzt ist, wird es einer Polymerisationsreaktion unterzogen, wodurch ein komplexes Polymernetzwerk entsteht, das sehr resistent gegen zerstörende Säuren, Laugen und andere Lösungsmittel ist. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass der Photolack stabil ist, wenn er den im Halbleiterherstellungsprozess verwendeten Grundätz- und Reinigungsprozessen ausgesetzt ist. DAINIPPON 80B Maschine ist nicht nur aufgrund ihrer Zweikomponenten-Polymerstruktur einzigartig, sondern auch aufgrund ihrer Filmbildungsfähigkeit. Es ist sehr konform mit jeder Art von Substrat, wie Kupfer, Wolfram und Palladium. Das Werkzeug kann zu flexiblen, elastischen Folienschichten mit ausgezeichneter Haftung auf dem Substrat geformt werden. Darüber hinaus ist diese Ressource sehr widerstandsfähig gegen übliche Photoresist-Flüssigkeiten und -Lösungsmittel. Darüber hinaus ist 80B auch ein umweltfreundlicher Photolack. Es wurde entwickelt, um die strengen Umweltschutzanforderungen des japanischen Umweltministeriums mit VOC-Emissionen unter 30ppm zu erfüllen. Dieses Modell erfüllt alle Laboranforderungen und ist von der Europäischen Union für einige Prozesse zugelassen. Insgesamt ist DNS/DAINIPPON 80B Photoresist-Ausrüstung eine fortschrittliche Materialentwicklung in der Lithographie, bietet überlegene optische Leistung, ausgezeichnete Filmhaftung und optische Eigenschaften und umweltfreundliche Eigenschaften. Dieses System bietet hervorragende Photolackeigenschaften für anspruchsvolle Halbleiteranwendungen und kann eine Vielzahl von Bildern auf einer Vielzahl von Substraten erzeugen.