Gebraucht DNS / DAINIPPON 80B #9265297 zu verkaufen

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ID: 9265297
Coater / (2) Developer system.
DNS/DAINIPPON 80B Photoresist Equipment ist ein hochmodernes System, das für die Photolithographie in zahlreichen Branchen eingesetzt wird, einschließlich der Herstellung von Halbleitern und Leiterplatten. Es basiert auf einer hochauflösenden maskenlosen Bildgebungseinheit, die einen photonenfokussierten UV-Laser verwendet. Die Maschine arbeitet durch Belichten eines lichtempfindlichen Materials mit einer Lichtquelle. In diesem Fall wird der photonenfokussierte UV-Laser verwendet, um ein fein gesteuertes Muster auf der Materialoberfläche zu erzeugen. Das Material wird dann mit einer Chemikalie behandelt und ein Regler sendet ein Signal, um den photolithographischen Prozess zu starten. Um genaue Ergebnisse zu gewährleisten, ist das Werkzeug mit einer hochpräzisen Stufe ausgestattet, die das Material schnell und genau bewegen kann. Das Asset verfügt zudem über ein effizientes Datenübertragungsmodell, das die Verwendung von Fernprogrammierung und Datenzugriff über das Internet ermöglicht. Dies erhöht die Flexibilität und Effizienz der Ausrüstung, wodurch komplexere Muster schnell erstellt und manipuliert werden können. Das System verfügt über eine ausgeklügelte Steuereinheit, die den bestmöglichen Ertrag gewährleistet. Auf die Bedienmaschine kann ferngesteuert zugegriffen werden und sie bietet auch bei niedrigen Temperaturen Betriebsstabilität. Das Werkzeug wurde entwickelt, um sehr wiederholbare Ergebnisse mit schnellen Rüstzeiten und hoher Genauigkeit zu erzielen und Fehler zu beseitigen, die während des Bildgebungsprozesses auftreten können. Die Anlage kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, darunter maskenlose Lithographie, Mikrobearbeitung, Nanolithographie und direktes Schreiben. Es kann qualitativ hochwertige Ergebnisse auf einer Vielzahl von Probenoberflächen wie GaAs, Si, Saphir, Gold und Silizium auf Isolator (SOI) produzieren. DNS 80B Photoresist Model ist ein ausgezeichnetes Werkzeug, um genaue, komplexe Muster zu erzielen und Entwürfe schnell und präzise mit hoher Geschwindigkeit auszuführen. Es kann die Präzision, Geschwindigkeit und Effizienz von Produktionsprozessen erhöhen und Fehler und Fehler reduzieren.
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