Gebraucht DNS / DAINIPPON 80BW #182508 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80BW ist eine hochauflösende positive Photoresist-Ausrüstung für 7.5K und 10K-Halbleiterherstellungsprozesse. Das System verfügt über einen proprietären fortschrittlichen polymerhaltigen Positivresist, der optimiert ist, um eine überlegene Kontrolle über kritische Abmessungen (CD) und Oberflächen mit geringer Rauhigkeit zu erzielen. Es ist speziell entwickelt, um die höchste Leistung für die Musterung bei den anspruchsvollsten Auflösungen zu gewährleisten. Die Einheit besteht aus drei Komponenten: dem Resistmaterial, der Photoresist-Beschichtungslösung und der Entwicklungslösung. Das Resistmaterial ist eine proprietäre Formulierung von fortschrittlichen Polymeren, die eine überlegene Auflösung, Linienrauheit und Empfindlichkeit bieten. Die Photoresist-Beschichtungslösung ist so ausgelegt, dass eine gleichmäßige Beschichtung des Resistmaterials aufgebracht wird. Diese Photoresist-Beschichtungslösung wird so formuliert, dass der physikalisch dicke Resist in einer gleichmäßigen Schicht auf dem Targetsubstrat aufgebracht wird, was eine möglichst hohe Auflösung bei der Strukturierung ermöglicht. Die Entwicklungslösung wird formuliert, um das Photolackmaterial schnell und vollständig aus dem gewünschten Bereich zu entfernen und dabei die Beschädigung des darunter liegenden Substrats zu minimieren. Die Entwicklungslösung ist optimiert, um bei Abschluss des Entwicklungsprozesses eine überlegene Musterauflösung, kurze Zykluszeiten und minimale Rückstände bereitzustellen. In Kombination mit hochmodernen optischen Belichtungssystemen, präzisen und wiederholbaren Werkzeugen und Reinraumprozessen schneidet die Maschine am besten ab. Zusammen schaffen diese Komponenten komplette Photolacksysteme mit überlegener Kantenrauhigkeit, genauen und wiederholbaren Abmessungen, überlegener Linienauflösung und reduzierter Entwicklungszeit. Abschließend ist DNS 80BW ein fortschrittliches positives Photolackwerkzeug, das für die anspruchsvollsten lithographischen Prozesse entwickelt wurde. Das Asset bietet eine überlegene Kontrolle kritischer Abmessungen, Substratoberflächen mit geringer Rauhigkeit und reduzierte Entwicklungszeiten. Darüber hinaus ist das Modell in Kombination mit hochmodernen optischen Belichtungssystemen und Reinraumprozessen in der Lage, eine überlegene Musterauflösung mit minimalen Rückständen zu erzielen.