Gebraucht DNS / DAINIPPON 80BW #293600854 zu verkaufen
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ID: 293600854
Wafergröße: 8"
Track system, 8"
Spin test
DEV
SOC-2
SOC-3
DI Test: Cut
PEB-DEV: PEB = 130/90
Rinse: DI Washing
DEV Coating: Coat-SOB-DEV
NTD: PEB-nBA
BARC Coating:
KARC-426
BARC Coat
PR Coating:
SOB-U12
PR Coat (100 s)
PR Coat (120 / 90 s)
PR Coat (KUPR-AW23) (U-12)
PR Coat (KUPR-AW23) (U-13)
PR Coat (U-12)
PR Coat (U-13)
PEB-NBA-U17
SM DI Washing
PEB - Develop:
Oven test
PEB = 120 / 60 - DEV
PEB = 130 / 60 - DEV
PEB = 130 DEV = 20 s
PEB = 130 DEV = 60 s
PEB = 120 DEV (17)
PEB = 115°C / 60 - DEV (U-17)
PEB = 130°C / 60 - DEV (U-08)
DEV Manual test
RF Test:
TMAH
PEB-DEV-RFP
PEB Test:
100 / 60
130 / 90
Stripping:
Ethyl lactate
Pantanol
Soaking:
Soak-PEB-DEV
SOB-Soak
KUPR-A52-Soak.
DNS/DAINIPPON 80BW ist ein hochauflösendes Trockenfilm-Photoresist-Gerät zur Herstellung von Leiterplatten. Dieses Photoresist-System wurde entwickelt, um überlegene Leistung, hohe Reproduzierbarkeit und überlegene Erträge zu bieten. Es bietet überlegene Lichtabschirmung, eine hohe Empfindlichkeit und eine ausgezeichnete Auflösung. Diese Einheit umfasst eine von DNS entwickelte Folienbasis und eine von DAINIPPON formulierte Beschichtungsschicht aus selbstentwickelndem Photoresist. DNS 80BW Photoresistmaschine verwendet einen organisch/anorganischen, HEXAK™ Doppelschichtfilm als Basismaterial. Es bietet hervorragende Lichtschrankeneigenschaften, die eine effektive Lichtdurchlässigkeit und Dämpfung ermöglichen und die Verwendung von UV-Licht mit einem Wellenlängenbereich von 420-400 nm ermöglichen. Diese Struktur haftet auf den meisten PCB-Oberflächen und ist beständig gegen Lösungsmittel, Feuchtigkeit, Temperatur und andere raue Bedingungen. Es bietet zudem eine überlegene Haltbarkeit und Formstabilität. Die von DNS/DAINIPPON formulierte und hergestellte Photolackschicht ist für hochauflösende Linienbreiten und Kontaktlöcher optimiert. Es hat eine niedrige Viskosität und ausgezeichnete Benetzungseigenschaften, so dass es leicht auf der HEXAK™ Folienbasis beschichtet werden kann. Es bietet auch überlegene Auflösung und überlegene Kantendefinition. Der Photolack weist einen einteiligen Wirkstoff auf, der vor Gebrauch gemischt wird. Diese Formulierung sorgt für konsistente Leistung, hervorragende Kantendefinition und schnelles Mustern. Es ist auch thermisch stabil mit Thermoschock-Fähigkeiten, die erweiterte Verarbeitung und schnellere Turnarounds ermöglicht. DAINIPPON 80BW Photolackwerkzeug eignet sich für eine Vielzahl fortschrittlicher Anwendungen, wie ein- oder doppelseitige Leiterplatten, ultrafeine Linien und Kontaktlöcher, nicht standardmäßige Linienbreiten, blinde und vergrabene Vias, schwere Kupferstrukturen und Mikropatterns. Seine überlegene Lichtabschirmung und Auflösungsfähigkeit ermöglichen hohe Ausbeuten und Reproduzierbarkeit für Hochleistungsleiterplatten.
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