Gebraucht DNS / DAINIPPON 80BW #293600854 zu verkaufen

ID: 293600854
Wafergröße: 8"
Track system, 8" Spin test DEV SOC-2 SOC-3 DI Test: Cut PEB-DEV: PEB = 130/90 Rinse: DI Washing DEV Coating: Coat-SOB-DEV NTD: PEB-nBA BARC Coating: KARC-426 BARC Coat PR Coating: SOB-U12 PR Coat (100 s) PR Coat (120 / 90 s) PR Coat (KUPR-AW23) (U-12) PR Coat (KUPR-AW23) (U-13) PR Coat (U-12) PR Coat (U-13) PEB-NBA-U17 SM DI Washing PEB - Develop: Oven test PEB = 120 / 60 - DEV PEB = 130 / 60 - DEV PEB = 130 DEV = 20 s PEB = 130 DEV = 60 s PEB = 120 DEV (17) PEB = 115°C / 60 - DEV (U-17) PEB = 130°C / 60 - DEV (U-08) DEV Manual test RF Test: TMAH PEB-DEV-RFP PEB Test: 100 / 60 130 / 90 Stripping: Ethyl lactate Pantanol Soaking: Soak-PEB-DEV SOB-Soak KUPR-A52-Soak.
DNS/DAINIPPON 80BW ist ein hochauflösendes Trockenfilm-Photoresist-Gerät zur Herstellung von Leiterplatten. Dieses Photoresist-System wurde entwickelt, um überlegene Leistung, hohe Reproduzierbarkeit und überlegene Erträge zu bieten. Es bietet überlegene Lichtabschirmung, eine hohe Empfindlichkeit und eine ausgezeichnete Auflösung. Diese Einheit umfasst eine von DNS entwickelte Folienbasis und eine von DAINIPPON formulierte Beschichtungsschicht aus selbstentwickelndem Photoresist. DNS 80BW Photoresistmaschine verwendet einen organisch/anorganischen, HEXAK™ Doppelschichtfilm als Basismaterial. Es bietet hervorragende Lichtschrankeneigenschaften, die eine effektive Lichtdurchlässigkeit und Dämpfung ermöglichen und die Verwendung von UV-Licht mit einem Wellenlängenbereich von 420-400 nm ermöglichen. Diese Struktur haftet auf den meisten PCB-Oberflächen und ist beständig gegen Lösungsmittel, Feuchtigkeit, Temperatur und andere raue Bedingungen. Es bietet zudem eine überlegene Haltbarkeit und Formstabilität. Die von DNS/DAINIPPON formulierte und hergestellte Photolackschicht ist für hochauflösende Linienbreiten und Kontaktlöcher optimiert. Es hat eine niedrige Viskosität und ausgezeichnete Benetzungseigenschaften, so dass es leicht auf der HEXAK™ Folienbasis beschichtet werden kann. Es bietet auch überlegene Auflösung und überlegene Kantendefinition. Der Photolack weist einen einteiligen Wirkstoff auf, der vor Gebrauch gemischt wird. Diese Formulierung sorgt für konsistente Leistung, hervorragende Kantendefinition und schnelles Mustern. Es ist auch thermisch stabil mit Thermoschock-Fähigkeiten, die erweiterte Verarbeitung und schnellere Turnarounds ermöglicht. DAINIPPON 80BW Photolackwerkzeug eignet sich für eine Vielzahl fortschrittlicher Anwendungen, wie ein- oder doppelseitige Leiterplatten, ultrafeine Linien und Kontaktlöcher, nicht standardmäßige Linienbreiten, blinde und vergrabene Vias, schwere Kupferstrukturen und Mikropatterns. Seine überlegene Lichtabschirmung und Auflösungsfähigkeit ermöglichen hohe Ausbeuten und Reproduzierbarkeit für Hochleistungsleiterplatten.
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