Gebraucht DNS / DAINIPPON 80BW #9134993 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80BW ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den Einsatz in einer Vielzahl von IC-Herstellungsprozessen, einschließlich der Herstellung von Wafern, entwickelt wurde. Das System basiert auf einer chemischen Zusammensetzung aus Polymethylmethacrylat (PMMA), die in einem Gemisch aus Anisol, Kresol und anderen Chemikalien gelöst ist. Bei UV-Strahlung wird DNS 80BW einer Photopolymerisationsreaktion unterzogen, wodurch eine hochohmige Polymerschicht auf der Waferoberfläche entsteht. Diese Schicht dient als Schutzschicht, die bei weiteren IC-Herstellungsprozessen Schutz vor unerwünschten Verunreinigungen wie Metall oder organischen Rückständen bietet. Die Hauptvorteile der Verwendung von DAINIPPON 80BW als Photolackeinheit sind eine hohe Auflösung bei niedrigen Energiedosen, eine breite Palette von Belichtungszeiten und Empfindlichkeiten sowie eine hohe Gesamtauflösung. Darüber hinaus wird 80BW formuliert, um schnell zu trocknen, die Risiken von Kontamination und Abbau während der IC-Herstellung zu reduzieren. Die in DNS/DAINIPPON 80BW verwendeten Wafer müssen vor der Exposition sauber und frei von Verunreinigungen sein. Der Wafer ist an erster Stelle in der Strahlungsquelle, wo er mit UV-Strahlung beleuchtet wird. Je nach gewünschtem Ergebnis muss der Wafer gegebenenfalls mehrfach belichtet werden. Während des Belichtungsprozesses 80BW die photoaktiven Bestandteile in DNS eine chemische Veränderung erfahren und auf der Oberfläche des Wafers eine Widerstandsschicht bilden. Diese Schicht kann dann durch Ätzen oder ähnliche Techniken weiterverarbeitet werden. Während des gesamten Einsatzes wurde DAINIPPON 80BW in verschiedenen IC-Fertigungsschritten auf seine Wirksamkeit getestet. Im Allgemeinen weisen ICs, die mit der Maschine hergestellt werden, eine hohe Auflösung, gute Oberflächenniveaus und niedrigere Ätzraten auf. Darüber hinaus ist es für seine relativ kurzen Belichtungszeiten und ausgezeichnete Auflösung bekannt. Infolgedessen ist 80BW ein weit verbreitetes Photolackwerkzeug für eine Reihe von IC-Designs und Anwendungen.