Gebraucht DNS / DAINIPPON RF3 #9213798 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9213798
Wafergröße: 8"
Coater / Developer system, 8"
3SC ((2) Coaters + barc) + 2SD
Coater: (9) Resist systems
(6) Barc systems
(2) DEV Systems
14 PHP + 4 HP + 6 CP (Chill plate)
R In-line.
DNS/DAINIPPON RF3 ist eine Präzisionsfotoresistausrüstung, die auf der Verwendung von Nitrozellulose, Chrom und einem hochempfindlichen photosensibilisierenden Material basiert. Dieses Material, das als DNS- RF3 bezeichnet wird, ist eine proprietäre Harzmischung, die von DNS in Japan entwickelt wurde. Einmal Licht ausgesetzt, entwickelt DAINIPPON RF3 eine gehärtete Schicht auf dem Substrat, die dann verwendet werden kann, um Auflösung, Linienbreiten und Seitenverhältnisse auf nanoskaligen Geräten zu steuern. RF3 System bietet eine kostengünstige und präzise Möglichkeit, nanoskalige Photolithographiemuster auf komplexen Strukturen zu erstellen. Die Einheit besteht aus einer Kombination aus DNS/DAINIPPON RF3 Harz, Chrom und einem photosensibilisierenden Material, das auf einem Substrat abgeschieden wird. Das photosensibilisierende Material absorbiert die Lichtenergie aus dem Belichtungsstrahl und die resultierende Reaktion mit DNS RF3 ergibt eine Schicht aus gehärtetem Material. Diese gehärtete Schicht kann insbesondere nach dem gewünschten Design geätzt werden. Die Maschine erfordert auch den Einsatz eines Mikrokontaktdruckers und eines Präzisionsmaskenausrichters. Der Kontaktdrucker dient zur Vorbereitung des Substrats für den Photolack durch Ablegen des Chrom- und DAINIPPON RF3 Materials in der richtigen Anordnung und in den richtigen Bereichen. Mit dem Maskenausrichter wird dann eine Photomaske positioniert, die das gewünschte Muster enthält, das dem Lichtstrahl ausgesetzt werden soll. Nach der Belichtung des Substrats wird der Photolack entwickelt, der das Entfernen von Bereichen aus gehärtetem Material zu einem Muster ist. Der Vorteil RF3 Werkzeugs ist, dass es Präzisionslithographie zu einem Bruchteil der Kosten im Vergleich zu herkömmlichen optischen Lithographiesystemen bietet. Während nicht auf die Produktion von Nano-Geräte beschränkt, ist es in diesem Bereich, dass diese Ressource nachweislich hervorragende Ergebnisse zu bieten. Das Modell ist auch relativ einfach zu bedienen und kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, darunter mikromechanische Systeme, gedruckte Elektronik, Displays und Abbildungsoptiken. Abschließend bietet DNS/DAINIPPON RF3 eine kostengünstige und präzise Möglichkeit, nanoskalige Photolithographiemuster auf komplexen Strukturen zu erstellen. Das Verfahren ist relativ einfach, und die Vorteile des Systems sind, dass es für eine Vielzahl von Anwendungen präzise eingesetzt werden kann.
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