Gebraucht DNS / DAINIPPON RF3 #9360860 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON RF3 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung, entwickelt und hergestellt von DNS Inc., einem Marktführer auf dem Gebiet der Photomasken-Technologie. Das System wurde entwickelt, um die besten Ergebnisse in Auflösung, Linienbreite und Kontrast zu liefern und gleichzeitig eine überlegene Leistung bei hoher Produktivität und geringer Umweltbelastung zu bieten. Diese Photolackeinheit besteht aus vier Hauptkomponenten, nämlich: 1. Photoresist Coater: Der Photoresist Coater ist der erste Schritt in der Maschine und wird verwendet, um das Photomasken-Substrat gleichmäßig mit Photoresist zu beschichten. Der Coater verfügt über eine variable Festplattengeschwindigkeit, ein Vakuumfutter und eine optionale Schnellwechselfunktion, mit der der Benutzer schnell und einfach zwischen verschiedenen Fotolackformulierungen wechseln kann. 2. Belichtungsmodul: Das Belichtungsmodul ist der zweite Schritt des Werkzeugs und wird verwendet, um das Photomaskensubstrat mit Licht zu belichten. Es verfügt über einen Hochenergielaser, der in der Lage ist, einen einzelnen Abschnitt der Fotomaske gleichzeitig zu belichten und eine variable Strahlgröße und automatische Fokussierungsfunktionen für eine verbesserte Auflösung aufweist. 3. Post-Exposure Bake/Burn-off Modul: Dieses Modul ist der dritte Schritt der Anlage und verfügt über eine durchlässige Lampe für die Post-Exposure-Backen. Dieses Modul kann gegebenenfalls auch zum Abbrennen des Photolacks verwendet werden. 4. Entwicklungsmodul: Das Entwicklungsmodul ist der letzte Schritt im Modell und wird verwendet, um den belichteten Fotolack vom Photomaskensubstrat zu entfernen. Es verfügt über ein Durchflussdesign, das eine konsistente und gleichmäßige Entwicklung im gesamten Photomaskensubstrat ermöglicht. Insgesamt wurden DNS RF3 Photoresist-Geräte entwickelt, um überlegene Genauigkeit, Auflösung und Kontrast zu bieten und gleichzeitig eine verbesserte Leistung in einem hohen Produktionsmaßstab zu bieten. Es ist eine effektive und kostengünstige Lösung für diejenigen, die lithographische Photomasken mit Leichtigkeit und Präzision herstellen möchten.