Gebraucht DNS / DAINIPPON RF3S #9392420 zu verkaufen
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ID: 9392420
Wafergröße: 12"
(5) Coater / (5) Developer system, 12"
Does not include Hard Disk Drive (HDD).
DNS/DAINIPPON RF3S ist ein Spin-on-Photoresist-Verfahren, das eine hervorragende Auflösung im Feinabstandsbereich mit minimalem Seitenverhältnisverlust bietet. Es verwendet einen Negativton-Resist, der auf das Substrat mit einem Spin-Coating ähnlichen Verfahren aufgebracht wird. Diese Ausrüstung eignet sich aufgrund der hohen Zykluslebensdauer und der hohen Transparenz durch die Verwendung der Spin-on-Verarbeitung perfekt für Anwendungen mit SMD (Surface Mounting Device) und Fine-Pitch-Geräten. Der Photoresist des DNS- RF3S-Systems ist ein Acrylat-Copolymermaterial auf Phenylbasis, das mittels Spin-on-Verarbeitung auf das Substrat aufgebracht wird. Dies sorgt für eine gleichmäßige Dicke und eine hervorragende Auflösung. Die Beschichtung enthält lichtempfindliche Materialien, die zur Aktivierung des Belichtungsprozesses ultraviolettem Licht ausgesetzt sind. Anschließend wird der Resist entwickelt, der die strukturierten Merkmale der Vorrichtung definiert. Das Gerät verfügt außerdem über einen kontrastreichen Entwickler, der eine hervorragende Bildauflösung und eine hohe Prozessbreite bietet. Es ist für tiefe Hohlraummuster formuliert und sorgt für eine gute Kantendefinition für schmale Linienbreiten. Es ist auch wasserdicht und kann verwendet werden, um großflächige Smaztmaske Liner und Inseln abdecken. DAINIPPON RF3S ist auch für PB-freie Prozesse konzipiert. Der Resist hat eine ausgezeichnete Haftung zu Kupfer und erfüllt die Anforderungen sowohl leitungsloser als auch bleihaltiger Plattenmontageprozesse. Es ist auch eine geringe Ausgasung und hat eine geringe Wasseraufnahme für eine verbesserte Lötbarkeit. Die Maschine bietet eine hervorragende Bildauflösung und ein breites Prozessfenster. Es verfügt auch über lange Haltbarkeit und überlegene thermische Stabilität. Darüber hinaus ist der Resist ein universelles Werkzeug, das bei allen Arten von Photolithographie-Plattensystemen sehr gut einsetzbar ist. Insgesamt ist RF3S Spin-on-Photoresist-Asset eine hervorragende Lösung für SMD- und Fine-Pitch-Anwendungen. Es bietet eine hervorragende Auflösung und ist in hohem Maße kompatibel mit führungs- und führungslosen Montageprozessen. Das Modell kann auch mit allen Arten von Photolithographie-Plattensystemen verwendet werden und bietet ein breites Prozessfenster und eine lange Haltbarkeit.
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