Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W60A-AV #9018261 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AV ist eine hochmoderne Photolackanlage, die in Halbleiterherstellungsprozessen eingesetzt wird. Es ist in der Lage, Muster vom Typ N oder P auf Substraten bis 200 mm Durchmesser und bis zu 30 μ m Dicke herzustellen. Das System ist mit fortschrittlichen Designwerkzeugen und Simulationsmöglichkeiten integriert, was es zu einer attraktiven Lösung für die digitale Fertigung macht. Die Einheit besteht aus einem vierstufigen Ätzprozess, der mit der Photolackabscheidung beginnt. Dies wird durch den Einsatz von zwei unabhängigen Quellen, Substratträgertisch und Dispenser erreicht. Der Substratträgertisch trägt eine gleichmäßige Abscheidung von Photolack auf das Substrat auf. Der Spender ist so eingestellt, dass er eine bestimmte Menge Photolack abscheidet und kann zur Variation der Schichtdicke verwendet werden. Sobald der Photolack aufgebracht ist, wird er einer Strahlung durch eine Maske ausgesetzt. Die Strahlung kann auf bestimmte Teile des Substrats zugeschnitten werden und ein kundenspezifisches Muster liefern. Während der Bildgebung werden zwei Kameras verwendet, um die Eigenschaften der Resist-Schicht zu lokalisieren und Einblick zu gewinnen. Zur Erleichterung der Bildgebung stehen ein optisches Mikroskop und ein Laserwerkzeug zur Verfügung. Die dritte Stufe des Prozesses ist die Entwicklungsstufe. Hier wird die Resistschicht entwickelt und das abgebildete Muster offenbart. Die belichteten Bereiche werden weiter geätzt und die Substrate einer Spülung unterworfen. Diese Spülung entfernt eventuelle Restchemikalien von der Oberfläche, ohne die strukturierte Schicht zu zerstören. In der vierten Stufe wird eine konforme Schicht zur Vervollständigung des Musters abgeschieden. Sobald die konforme Schicht vorhanden ist, wird das Substrat ein zweites Mal gespült, um sicherzustellen, dass alle Chemikalien entfernt wurden. Nach erfolgreichem Abschluss dieser vier Schritte kann der Wafer für weitere Verfahren wie Dotieren oder Metallisieren verwendet werden. Insgesamt ist DNS SCW-60A-AV eine fortschrittliche Photolackmaschine, die einen zuverlässigen und schnellen Prozess zur Erzeugung von Halbleitermustern auf Substraten bietet. Es wurde entwickelt, um eine ausgezeichnete bildgebende Auflösung, hohe Abscheidungsgenauigkeit und eine geringe Möglichkeit von Defekten zu bieten. Das Werkzeug kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm und einer Dicke von bis zu 30 μ m handhaben und ist damit die perfekte Lösung für die fortschrittliche Halbleiterherstellung.