Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W60A-AV #9251325 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AV Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Lithographiesystem, das verwendet wird, um mikroelektronische Geräte mit hoher Genauigkeit und Geschwindigkeit zu mustern. Seine Fähigkeiten umfassen fortschrittliche Dünnschicht- und Messtechnologien, umfassende Materialhandhabungssysteme, hochpräzise optische Systeme und Photoresist-Verarbeitung. Diese Einheit ist ideal für die Herstellung von ultrafeinen Linien und Ferrulen in der MEMS (Microelectromechanical systems) und IC (Integrated Circuits) Produktion sowie anderen Prozessen. Die Maschine ist mit einem zweiwelligen Resonanzanregungslaser, polarisationserhaltenden Faserbalg und einer Ganzfeld-Projektionslinse ausgestattet. Dies ermöglicht eine präzise, wiederholbare Belichtung auch bei sehr komplexen Mustern. Das Werkzeug ist zudem mit einer mehrachsigen Stufe ausgestattet, die eine präzise und wiederholbare Bewegung für eine Vielzahl von mikrooptischen bildgebenden Anwendungen ermöglicht. Die Bühne enthält auch eine integrierte Indexierungsfunktion, um eine genaue und wiederholbare Positionierung über eine Vielzahl von Mustern zu gewährleisten. Um ein konsistentes Resist-Profil zu gewährleisten, ist das Asset in ein halbautomatisches Wafer-Handling-Modell mit Vakuum-Evakuierungskammern integriert. Während des Waferbelichtungsschrittes manipuliert das Gerät den Wafer, um ein optimales Resistprofil zu erhalten, das zu höheren Produktionsausbeuten beiträgt. Das System kann auch verwendet werden, um magnetische Domänen zu strukturieren, die eine breite Palette von Anwendungen wie MEMS, IC, Festplatte und Flachbildschirm-Produktion haben. Dazu ist die Einheit mit einem optischen Dispersionspolarimeter integriert, das die magnetische Feldstärke zweidimensional gleichzeitig misst. Sie ermöglicht auch eine Temperaturstabilitätsregelung durch aktive Kompensation der mit dem Abbildungsprozess verbundenen thermischen Drift. Darüber hinaus ist die Maschine auch in der Lage, simultane Abbildungs- und Messtechnik zu betreiben, wodurch der Anwender die Qualität der hergestellten Vorrichtung mit dem Konstruktionsmodell vergleichen kann. Dies hilft, die Genauigkeit und Zuverlässigkeit des resultierenden Produkts zu verbessern. Insgesamt ist DNS SCW-60A-AV Photoresist Tool eine fortschrittliche Lithographie-Komponente mit einer breiten Palette von Funktionen. Seine Fähigkeiten umfassen fortschrittliche Dünnschicht- und Messtechnologien, umfassende Materialhandhabungssysteme, hochpräzise optische Systeme und Photoresist-Verarbeitung. Seine Fähigkeit, magnetische Domänen zu mustern und seine hohe Genauigkeit und Geschwindigkeit machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von ultrafeinen Linien und Ferrules in MEMS und IC-Produktion.