Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W60A-AVQ #9235500 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AVQ ist eine Photolackausrüstung, die zur Herstellung von hochpräzisen Masken für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das System ist mit zwei Photoresist-Belichtungsköpfen ausgestattet, die Interferenzbelichtungstechnologie verwenden, um einheitliche, hochpräzise Photoresist-Muster auf einer Vielzahl von Substraten zu erreichen. Der Grundbetrieb der Einheit besteht in der Verwendung einer Fotomaske, die das auf das Substrat zu übertragende Muster enthält. Die Photomaske wird auf die beiden Photoresist-Belichtungsköpfe aufgesetzt. Jeder Kopf besteht aus vier Lichtbogenlampen und vier Kondensatorlinsen in einer gemeinsamen Stufe. Ein dreidimensionaler optischer Scanner sorgt für eine gleichmäßige Belichtung der Photomaske. Die Maske wird unter präzisen Winkeln dem Licht ausgesetzt, um die Genauigkeit des übertragenen Bildes zu gewährleisten. Die Maske wird auf eine „Probenstufe“ gelegt, die auf einer hochpräzisen motorisierten Bühne montiert ist, die sich in x-, y- und z-Richtung bewegt, um die Fotomaske auf das Substrat auszurichten. Die mit Luftlagern ausgestattete Laser-Ausrichteinheit und Auto-Ausrichtmaschine gewährleisten zudem eine präzise Ausrichtung, so dass die Fotomaske genau registriert werden kann. Das Werkzeug ist auf hohe Präzision und Flexibilität ausgelegt. Dies wird durch seine benutzerfreundliche Oberfläche erreicht, die es dem Anwender ermöglicht, das Asset schnell einzurichten und zu betreiben. Beispielsweise kann der Benutzer die Lichtintensität jeder Lichtbogenlampe und die Belichtungszeit jedes Kopfes ändern. Die Belichtungsköpfe können automatisiert werden, so dass Benutzer die Belichtungszeit für jede Wellenlänge des Lichts einstellen können, um Schwankungen in der Photomaske zu kompensieren, um jedes Muster genau zu registrieren. Das Modell ist auch mit Bildverarbeitungssoftware ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, den Kontrast und die Helligkeit der Fotomaske anzupassen und eventuelle Staubpartikel auf der Fotomaske oder dem Substrat zu entfernen. Dies gewährleistet eine hohe Präzision der Musterübertragung. Schließlich enthält DNS SC-W60A-AVQ ein Paar anspruchsvoller Ionenstrahl-Sputter- und Dampfabscheidungssysteme. Dies ermöglicht die Abscheidung von Dünnschichtmaterialien über den Mustern auf dem Substrat. Diese Materialien bilden in Kombination mit dem Photolackmuster eine hohe Zuverlässigkeit und hocheffiziente Halbleiterbauelemente. Abschließend ist DAINIPPON SC-W60A-AVQ eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die für die Herstellung von hochpräzisen Masken für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es ist mit zwei Präzisionsbelichtungsköpfen, Laserausrichtungseinheiten und Bildverarbeitungssoftware ausgestattet, die dem Benutzer die Flexibilität und Genauigkeit bieten, die für die Herstellung hochwertiger Masken erforderlich ist. Darüber hinaus ermöglichen seine fortschrittlichen Sputter- und Dampfabscheidungssysteme es dem Benutzer, dünne Filme genau über die Muster auf dem Substrat abzuscheiden und so das Beste aus dem Photolacksystem zu machen.