Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W60A #293768580 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W60A ist eine Photoresist-Verarbeitungsanlage für Dünnschichtmetallisierungsprozesse. Das System ist eine integrierte Plattform von Geräten zum Entfernen und Abscheiden von Photolack auf Substratoberflächen und eignet sich gut für den Einsatz bei der Herstellung von hochpräzisen elektronischen Komponenten. Das Gerät umfasst drei Hauptkomponenten: eine Nassbearbeitungsstation, eine Fotolackentfernungsmaschine und ein Aufdampfwerkzeug. Die Nassverarbeitungsstation umfasst einen Satz Präzisionstanks für die Herstellung von hochwertigem Photolack. Die Tanks sind unglaublich präzise und ermöglichen die Bildung von Submikron-Resistmustern, die verwendet werden können, um ultrafeine Merkmale auf Substraten zu bilden. Diese Behälter ermöglichen eine automatisierte Volumenregelung, Druckregelung und chemische Steuerung und sorgen für optimale Verarbeitungsbedingungen. Die Photolackentfernung soll den Photolack präzise von der Substratoberfläche entfernen. Es verwendet leistungsstarkes Stickstoffplasma, um den Photolack zu verdampfen und eine saubere Substratoberfläche zu hinterlassen. Das Modell ist in der Lage, Photolack von Substraten bis zu 55mm Größe zu entfernen, und die Präzision ist in der Lage, Tiefenauflösung bis zu 10nm zu erreichen. Die Bedampfungseinrichtung wird im Rahmen des Photolackauftragsverfahrens verwendet. Es verwendet ein Hochtemperatur-Aufdampfverfahren, um den Photolack aufzubringen. Dieses Abscheidungsverfahren ist hochpräzise und kann Photolack innerhalb von 0,1 um Genauigkeit abscheiden. Das gesamte System ist für den Betrieb unter strengen Qualitätskontrollanforderungen ausgelegt. Das Gerät ist in der Lage, umfangreiche Tests und Inspektionen durchzuführen, die Dickengenauigkeitsmessungen, Oberflächenreinheitsmessungen, Linienbreitenmessungen und Mikroskopiemessungen umfassen. Diese Tests stellen sicher, dass der gewünschte Photolack präzise und zuverlässig aufgebracht wird. Insgesamt ist DNS SC-W60A eine hochentwickelte Photoresist-Verarbeitungsmaschine, die ultrafeine und genaue Substrateigenschaften erzeugen kann. Das Werkzeug ist für die Herstellung von hochpräzisen elektronischen Komponenten konzipiert und liefert konsistente, zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse.