Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W60A #9115318 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W60A Photoresist Equipment ist eine Komplettlösung zum Entwickeln, Belichten und Ätzen ultradünner Photoresist-Schichten, die bei der Herstellung von Halbleitern verwendet werden. DNS SC-W60A kombiniert hochpräzise Belichtungsstrahlausrichtung, einstellbare überlappende Belichtungsmasken sowie hochpräzise Waferpositionierung und Vakuumhaltung, um hervorragende Photoresist-Verarbeitungsergebnisse zu liefern. Die Architektur des Systems basiert auf einer dreiachsigen hochpräzisen Positioniereinheit, bestehend aus einer Basis, einer Kippstufe und einer Handgelenkverbindung, die eine exakte Platzierung jedes Wafers innerhalb einer Maskenarbeitsstation ermöglicht. Diese Maschine wurde entwickelt, um eine exakte Überlappung der Maskenschichten sicherzustellen, und ist einstellbar, um jede Größe Wafer aufzunehmen. Um eine maximale Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, nutzt DAINIPPON SCW-60A ein strukturiertes Belichtungs-Array, das einen Scanner der oberen und unteren Ebene nutzt, um qualitativ hochwertige Bilder zu erstellen. Darüber hinaus ist dieses Werkzeug speziell entwickelt, um sicherzustellen, dass jede Waferoberfläche vollständig frei von Partikeln ist. Um Photolackschichten so weit wie möglich zu optimieren, nutzt DNS SCW-60A eine Hochdruck-Lieferung, die einen mechanischen Verschluss verwendet, um Druck auf unterschiedlichen Niveaus zu blasen. Dieser kontrollierte Prozess trägt dazu bei, dass Photolackmuster gleichmäßig auf den Substraten haften. Zusätzlich wird ein Auto-Fokus-Modell implementiert, um Partikel zu deaktivieren und den gesamten Prozess zu überwachen, während eine korrosionsbeständige Edelstahlkammer hilft, die Genauigkeit während des kontinuierlichen Gebrauchs sicherzustellen. Während des Ätzens verwendet DNS/DAINIPPON SCW-60A einen HF-Generator und eine chemische Quelle, um hochleistungsfähiges reaktives Ionenätzen zu liefern. Der HF-Generator ist so ausgelegt, dass er eine Hochfrequenzwelle erzeugt, die dann dem Wafer zugeführt wird, um eine Reaktion zu erzeugen, bei der Ionen in der Kammer auf den Wafer angezogen werden und dann Muster im Photolack erzeugen. Die chemische Quelle sorgt dafür, dass der Ätzprozess schnell und präzise ist. Um Genauigkeit und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten, wurde SCW-60A entwickelt, um jeden Prozess zu überwachen. Das Gerät verfügt über mehrere Sensoren und Geräte, die Partikelabscheidung, Temperatur, Druck, Photolackschichten und Ätzkonzentrationen verfolgen und die Ergebnisse automatisch auf einem LCD-Monitor anzeigen. Zusätzlich sorgt ein algorithmenbasiertes Anpassungssystem dafür, dass jeder Wafer genau an dem vorgegebenen Muster festhält. Insgesamt ist DAINIPPON SC-W60A Photoresist Unit eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterhersteller, die bei ihren Photoresist- und Ätzprozessen präzise, gleichbleibend hochwertige Ergebnisse benötigen. Durch die Nutzung der hochpräzisen Komponenten der Maschine, präziser Überwachungssysteme und automatisierter Prozesse können Benutzer sicher sein, dass sie mit einer zuverlässigen und fortschrittlichen Photolacklösung arbeiten.