Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W60A #9142689 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W60A ist ein flüssiges Photoresist-Gerät, bestehend aus Photoresist, Entwickler und wässrigem Entferner. Es wird in der Halbleiterindustrie eingesetzt, vor allem zur Strukturierung verschiedener Bauelemente bei der Herstellung integrierter Schaltungen (IC). Das Photolacksystem verwendet eine Kaliumhydroxid (KOH) -Ätzlösung, um die belichteten Bereiche des Photolackmaterials zu ätzen. Dieses Ätzverfahren bildet das gewünschte Muster auf dem Substrat und wird anschließend durch Nassreinigung und Trocknung des Substrats gefolgt. Die Einheit hat zwei Hauptkomponenten, die Photolacklösung und den Entwickler. Die Photoresistlösung ist ein Gemisch aus lichtempfindlichen Verbindungen und Bindemitteln, die auf UV- oder Elektronenstrahlung reagieren. Es bietet ein außergewöhnliches Maß an Mustertreue, Linienbreitenkontrolle und Auflösung. Der Entwickler wird verwendet, um den belichteten Photolack nach dem Strukturierungsvorgang abzuleiten. Diese chemische Lösung besteht typischerweise aus organischen Lösungsmitteln und organischen Säuren wie Schwefelsäure und Flusssäure. Bei der Strukturierung des Photoresists wird das Substrat in die Photoresistlösung eingetaucht, typischerweise für 8-15 Sekunden. Das Substrat wird dann für eine gewisse Zeit UV-Licht, Elektronenstrahl oder Laserlicht ausgesetzt, um den Photoresist auszuhärten. Die belichteten Bereiche des Photolacks werden im Entwickler gelöst, wobei das gewünschte Muster auf der Substratoberfläche verbleibt. Anschließend wird das Substrat in wäßrigem Entferner gespült, um eventuell verbleibende Photolacke zu entfernen. Anschließend wird das Substrat getrocknet und bereit für den nächsten Verarbeitungsschritt. DNS SC-W60A Photoresist Maschine ist für hohe Leistung und Präzision ausgelegt. Es bietet eine hochauflösende Mustertreue mit hervorragender Linienbreitenkontrolle und hervorragender Naßchemikalienbeständigkeit. Das Photoresist-Tool kann in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, wie IC-Photoresists, ein- und mehrschichtige Musterung, ultrafeine Strukturierung und Hochtemperatur-Reflow-Löten. Mit seiner bemerkenswerten Beständigkeit gegen eine Vielzahl von Prozessbedingungen ist der Photolack ideal für fortschrittliche Verpackungen und Optoelektronik. Insgesamt bietet DAINIPPON SCW-60A Photoresist-Modell ein einfaches und zuverlässiges Mittel zur Strukturierung von mikroelektronischen Geräten. Das Gerät verfügt über eine Reihe von Vorteilen, darunter eine ausgezeichnete Haftung auf dem Substratmaterial, eine überlegene Auflösung und eine hervorragende Linienbreitenkontrolle. Das System ist nach wie vor eine beliebte Wahl bei den IC-Herstellern aufgrund seiner nachgewiesenen Erfolgsbilanz bei erfolgreichen Implementierungen und effizienten Operationen.