Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W629-BVQ #293748585 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SC-W629-BVQ ist ein zweiteiliges flüssiges Photoresist-System, das speziell für Halbleiterlithographieanwendungen entwickelt wurde. Der Photoresist ist ein chemischer Positiv-Ton-Verbundstoff, der eine wässrige lichtempfindliche Schicht und eine nicht lichtempfindliche Schutzschicht umfasst, die eine ausgezeichnete Auflösung, einen hohen empfindlichen Mustertransfer und eine zuverlässige Leistung auf einer Vielzahl von Substraten und Prozessbedingungen bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Die wäßrige lichtempfindliche Schicht besteht aus einem Donorpolymer, Initiator, Bindemittel und Sensibilisator. Das Donorpolymer ist ein Polyvinylamin enthaltend mindestens 4% Hydroxyethylmethacrylat (HEMA) und Initiator-Bindemittel, welches HEMA mit einem Polyvinylamino-Weichmacher kombiniert. Der Sensibilisator für die wässrige lichtempfindliche Schicht basiert auf Co (NH3) 6Cl3 und bietet einen ausgezeichneten Mustertransfer über einen breiten Spektralbereich. Dieser Sensibilisator ist besonders effektiv für ultraviolette Belichtung mit Wellenlängen von 365 Nanometern (nm) und 248 nm und wird für 0,30 Micron und kleinere Merkmalsgrößen empfohlen. Die nicht lichtempfindliche Schutzschicht ist eine polymerbasierte Sekundärschicht, die zum Schutz der darunterliegenden Photoresistschicht beiträgt. Diese Schicht bietet eine wirksame chemische Barriere zwischen der aktiven lichtempfindlichen Schicht und der Prozessumgebung bei lithographischen Anwendungen. Es ist beständig gegen die meisten Lösungsmittel und andere Chemikalien, die bei der Verarbeitung verwendet werden, und haftet ohne Delamination auf der darunter liegenden lichtempfindlichen Schicht. DNS SC-W629-BVQ Photolacksystem ist für den Einsatz in der Photolithographie konzipiert und eignet sich für Standardverarbeitungsbedingungen von 25 bis 40 ° C. Dieser Photoresist bietet ausgezeichnete Auflösung, Musterübertragung, Ätzwiderstand, Verträglichkeit mit alkalischen Ätzmitteln und hohe Photospeed. Dieser Photoresist ist lösungsmittelbeständig, UV-stabil und nachbelichtungsstabil und eignet sich daher ideal für mehrere Prozessschritte bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Insgesamt ist DAINIPPON SC-W629-BVQ Photolacksystem eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, da es die Herstellung hochwertiger, hochauflösender feiner Linienmuster ermöglicht. Es bietet zuverlässige Leistung, hohe Auflösung und eine breite Palette von Prozesskompatibilität, so dass es ein wertvolles Werkzeug bei der Bildung von elektronischen Komponenten.