Gebraucht DNS / DAINIPPON SC-W80A-AVG #9157627 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SC-W80A-AVG
ID: 9157627
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Coater / Developer system, 8" 1996 vintage.
DNS/DAINIPPON SC-W80A-AVG Photoresist-Ausrüstung ist ein Werkzeug für fortschrittliche Lithographie-Prozesse. Das System bietet Präzision und Wiederholbarkeit durch den Einsatz einer hochmodernen Lichtquelle und Photomasken-Technologien. Im Kern verfügt das Gerät über eine Lichtquelle: einen Krypton Fluoride (KrF) Excimerlaser. Dieser leistungsstarke Laser bietet eine tiefe ultraviolette (UV) Lichtemissionsquelle, wodurch eine kleine Funktionsgröße mit hoher Geschwindigkeit und Auflösung gedruckt werden kann. DNS SC-W80A-AVG Maschine kann die Leistung des Lasers nutzen, um Funktionsgrößen von weniger als 10 Nanometern (nm) zu produzieren. Das Werkzeug verfügt auch über einen gut gestalteten optischen Lichtweg, der Operationen mit präziser Mustererzeugung und optischer Ausrichtung ermöglicht. Die Optik verfügt über eine schwimmende bewegliche Maskierungsplattform zusammen mit einem Fixed Light Regale, die die Maske und Laser Fokus unterstützt. Dies ermöglicht die präzise Ausrichtung von Maske und Laser, so dass die Musterausrichtung von +/- 1 µm gewährleistet ist. Neben seiner überlegenen Optik verfügt DAINIPPON SC-W80A-AVG Asset auch über eine fortschrittliche Photomasken-Technologie. Diese Technologie arbeitet, um den Photolack über die Maske und Substratsysteme zu geben, um sie voneinander isoliert zu halten. Die Verwendung einer fortschrittlichen Photomaske stellt sicher, dass die Maske und das Substrat kein Photoresist-Übersprechen oder Verschmutzungen erfahren, die zu einer schlechten Leistung führen können. Insgesamt ist SC-W80A-AVG Photoresist Model ein fortschrittliches Lithographie-Tool mit überlegener Optik und Photomasken-Technologie. Der leistungsstarke KrF Excimerlaser ermöglicht Präzisionsfunktionsdruck mit extrem kleinen Funktionsgrößen, während der ausgeklügelte optische Lichtweg eine präzise Mustererzeugung und -ausrichtung gewährleistet. Darüber hinaus verhindert die fortschrittliche Photomasken-Technologie Verunreinigungen, wodurch Anwender hervorragende Leistung und Wiederholbarkeit erzielen können.
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