Gebraucht DNS / DAINIPPON SCW-629 #9269454 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SCW-629 Photoresist ist ein hochmodernes Photolithographiesystem, bekannt für seine hochgenauen und präzisen Strukturierungsmöglichkeiten, ideal für die Herstellung von Elektronik- und Halbleiterbauelementen. Es ist eine einstufige, hochauflösende Mustereinheit, die Herstellern hilft, schnell und präzise Muster zu erstellen, um enge Designspezifikationen zu erfüllen. Die Maschine besteht aus drei Hauptteilen: einer Lichtquelle, einem Photolackmaterial und einer bevorzugten Abbildungsvorrichtung. DNS SCW-629 verwendet als Lichtquelle eine Quecksilberdampflampe mit hoher Intensität von 150 mW/cm2. Diese Lichtquelle liefert eine kontinuierliche Welle, die genaue und präzise Ergebnisse für die Hochgeschwindigkeitsbildgebung liefert. Das Fotolackmaterial arbeitet mit der Lichtquelle zusammen, um ein genaues und präzises Muster zu erzeugen. Jede Art von Photoresist-Material variiert in der Art, wie es auf Licht anspricht, so dass Fabrikatoren möglicherweise mit mehreren Photoresist-Materialien experimentieren müssen, um ihre ideale Lösung zu finden. Um das Muster effizient auf das Fotolackmaterial aufzudrucken, setzt DAINIPPON SCW-629 einen digitalen Maskenausrichter ein, um die Fotomaske genau und präzise über das Fotolackmaterial zu legen. Dies ermöglicht es Herstellern, schnell Muster und Ergebnisse mit minimalem Aufwand zu produzieren. Nach dem Aufätzen des gewünschten Musters auf das Photolackmaterial können SCW-629 zur schnellen Trocknung und Aushärtung des Musters verwendet werden. Dies geschieht durch die Verwendung eines ultraschnellen Sets von Infrarot-Heizungen, um sicherzustellen, dass die Photomaske und das Muster fest angebracht sind und sich während der Verarbeitung nicht bewegen. Insgesamt ist das DNS/DAINIPPON SCW-629 Photoresist-Tool ein effizientes und leistungsstarkes Werkzeug für Fabrikatoren, die sehr detaillierte, genaue und präzise Musterfunktionen benötigen. Die hochwertige Quecksilberdampflampe und der digitale Maskenausrichter ermöglichen es Herstellern, ihr gewünschtes Muster schnell und präzise herzustellen. Dies wird durch seine ultraschnellen Trocknungs- und Aushärtungsmöglichkeiten weiter verbessert, so dass die Hersteller schnell ihr gewünschtes Muster auf einer Vielzahl von Photolackmaterialien erzeugen können.