Gebraucht DNS / DAINIPPON SCW-636-BV #9269117 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SCW-636-BV
ID: 9269117
Wafergröße: 5"-6"
Coater systems, 5"-6".
DNS/DAINIPPON SCW-636-BV ist eine Photoresist-Ausrüstung von DNS SCW Co., Ltd. Das System ist eine hochentwickelte, führende Photolackeinheit, die für die Entwicklung und Herstellung von mikroelektronischen Geräten entwickelt wurde. DNS SCW-636-BV verfügt über eine vollständig integrierte Photoresist-Beschichtungsmaschine mit einer Lichtquelle, Hochwasserbelichtung, Ausrichtgerät, Spül- und Schleudertrockeneinheit und vollständig anpassbaren Photolackschichten. Es bietet dem Anwender ein beispielloses Maß an Anpassung und Kontrolle über den Photolackbeschichtungs- und Abscheidungsprozess. Das Photoresist-Werkzeug ist für die Herstellung von Fine-Pitch-Leiterplatten ausgelegt. Die integrierte Lichtquelle deckt einen extrem breiten Wellenlängenbereich von 400nm - 1.200nm ab. Dies kann verwendet werden, um fortschrittliche Photon Semiconductor Lithography (PSL) -Techniken zu verwenden. Die Hochwasserbelichtungseinheit ist mit einem Präzisionsglas-Schieber gebaut, um eine gleichmäßige Belichtung während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Der Aligner wurde mit fortschrittlicher Mustererkennungssoftware entwickelt, um den Photoresist-Anwendungsprozess genau auszurichten. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photopattern exakt reproduziert und auf dem Substrat abgeschieden werden. Die Spül- und Spin-Dry-Einheit ist mit einem hochpräzisen Motorregler ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Spülung gleichmäßig durchgeführt wird, um eine Kontamination des Substrats zu vermeiden. Die Anpassbarkeit der Photolackschichten ermöglicht es dem Benutzer, die perfekte Kombination von Verarbeitungstechniken für jede Schicht zu wählen, wodurch ein beispielloses Maß an Kontrolle über den Photolackprozess ermöglicht wird. Dies ermöglicht eine präzise Nachbildung von Mustern mit glatten und gleichmäßigen Oberflächen. Insgesamt ist DAINIPPON SCW-636-BV ein hochmoderner Photoresist für den Einsatz in der Mikroelektronik. Es verfügt über einen integrierten Satz von Komponenten, einschließlich einer Lichtquelle, Flutbelichtung, Aligner, Spül- und Spin-Dry-Einheit, für vielseitige und genaue Photoresist-Anwendung. Seine anpassbaren Photoresist-Schichten bieten eine beispiellose Steuerung, während seine Präzisionsmotoren und Glasschieber dafür sorgen, dass die Photopattern präzise reproduziert werden, mit gleichmäßigen Beschichtungen und Oberflächen.
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