Gebraucht DNS / DAINIPPON SCW-80A-AVP #293617284 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SCW-80A-AVP Photoresist ist ein hochentwickeltes, präzises Ätz- und Beschichtungssystem, das eine hervorragende Genauigkeit für photolithographische Prozesse bietet. Es eignet sich gut für Mikrofabrikationsprozesse in einer Vielzahl von Branchen. Dieses Gerät wurde entwickelt, um außergewöhnliche, qualitativ hochwertige Photomasken zu produzieren, die bei der Herstellung funktionaler Komponenten in verschiedenen Anwendungen verwendet werden können. DNS SCW-80A-AVP Maschine verwendet sowohl eine fortschrittliche Elektronenstrahl-Verdampfung (EBE) als auch ein tiefes ultraviolettes Belichtungswerkzeug, um präzise Photoresist-Beschichtung und Belichtungsergebnisse zu liefern. Mit dem EBE-Asset werden dünne Photolackschichten auf das Substrat aufgebracht, wodurch ein dünner Film auf der Oberfläche des Substrats entsteht. Das Substrat wird dann in die tiefe ultraviolette Belichtungseinheit des Modells eingelegt, wo mit einem Laserstrahl die gewünschten Merkmale auf die Photoresistschicht gemustert werden. Diese Einheit bietet auch Belichtungszeiten, die viel kürzer sind als herkömmliche Belichtungsmethoden, was schnelle Produktionszeiten ermöglicht. DAINIPPON SC-W80A-AVP Ausrüstung verwendet auch eine vertikale Expositionsquelle, die Drift der Exposition minimiert, um sicherzustellen, dass das Substrat während des gesamten Belichtungsprozesses Niveau bleibt. Diese vertikale Belichtungsquelle gewährleistet auch eine gleichmäßige Abdeckung der Oberfläche des Substrats. Das System verfügt auch über eine Autofokus-Einheit, die so konzipiert ist, dass der Belichtungsstrahl immer genau auf das Substrat gerichtet ist, um Qualitätsbelichtungsergebnisse zu gewährleisten. Schließlich ist SC-W80A-AVP Maschine mit einem automatischen Ätzwerkzeug ausgestattet. Diese Anlage verwendet einen hochpräzisen Ätzprozess, um sicherzustellen, dass das Photomaskenmuster genau auf das Substrat übertragen wird. Dieses hochentwickelte Ätzverfahren bietet eine hervorragende Genauigkeit und glatte Oberflächen, so dass hochpräzise und zuverlässige Bauteile hergestellt werden können. Insgesamt ist das DNS SC-W80A-AVP Photoresist-Modell eine ausgezeichnete Wahl für Photolithographie-Prozesse auf Produktionsebene. Es nutzt fortschrittliche Ätz- und Belichtungsquellen, um Photomasken mit außergewöhnlicher Genauigkeit zu produzieren und sicherzustellen, dass funktionale Komponenten mit zuverlässiger Leistung hergestellt werden können. Diese Ausrüstung eignet sich gut für die Herstellung von Komponenten in einer Vielzahl von Branchen und liefert sicherlich hervorragende Ergebnisse.