Gebraucht DNS / DAINIPPON SD-200W-AVPE #9157629 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SD-200W-AVPE Photoresist ist ein leistungsfähiges und vielseitiges Entwicklungssystem mit fortschrittlicher Technologie und höchster Leistung für verschiedene Photoresist-Anwendungen. Es verwendet Resistbeschichtungen, Belichtung und entwickeln Prozesse mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Diese Einheit ist ideal für die Herstellung von Halbleiter- und HDI/mikroelektronischen Geräten. Diese Fotolackmaschine besteht aus einem Mehrlappen-Drehschlitzdüsenabscheidekopf, der eine überlegene Gleichmäßigkeit bei der Anwendung des Resists ermöglicht, einer gekühlten Zweistrahl-motorisierten X-Y-Stufe und einer automatisierten Prozessablaufeinheit. Der Vielfachelappendrehschlitzschnauzenabsetzungskopf liefert genau, und repeatable widerstehen Überzugleistung, und hat die Kapazität für die leichte Anpassung an die Feinabstimmung der Prozess. Es ist mit drei unabhängig gesteuerten Resistdüsen ausgestattet, die in der Lage sind, Resist in verschiedenen Konzentrationsniveaus zu liefern, so dass das Werkzeug eine Resistmusterung mit höherer Genauigkeit durchführen kann. Die gekühlte zweistrahlig motorisierte X-Y-Stufe ist so konzipiert, dass sie eine glatte, vibrationsfreie Positionierung der Waferprobe während der Resistverarbeitung ermöglicht und eine große, geteilte Säulenplattform für die einfache Montage mehrerer Waferträger umfasst. Die motorisierte Stufe ermöglicht präzise Probenbewegungen, um genaue und konsistente Widerstandsmuster während des gesamten Laufs zu gewährleisten. Die automatisierte Prozessablaufeinheit ist für die Steuerung des gesamten Prozesses von der Skalierung der Bildgröße bis zum Aufzeichnungstest der Waferproben zuständig. Es speichert auch die Daten aus jedem Probenlauf und ermöglicht einen automatisierten Vergleich der Ergebnisse. Mit diesem Gerät können Ingenieure die Vermögensleistung im Laufe der Zeit optimieren und die Produktionserträge verbessern. Insgesamt bietet DNS SD-200W-AVPE Photoresist-Modell fortschrittliche Technologie und hohe Leistung für verschiedene Photoresist-Anwendungen und liefert eine genaue, wiederholbare und zuverlässige Resistverarbeitung. Vom Mehrlappen-Drehschlitzdüsenabscheidekopf bis zur automatisierten Prozessablaufeinheit bietet das Gerät ein umfangreiches Leistungsspektrum und ist damit eine ideale Wahl für die Herstellung von Halbleiter- und HDI/mikroelektronischen Geräten.