Gebraucht DNS / DAINIPPON SD-W80A-AVP #293705458 zu verkaufen

ID: 293705458
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
(2) Developer system, 8" 1994 vintage.
DNS/DAINIPPON SD-W80A-AVP ist eine Hochgeschwindigkeits-Beschichtungsanlage für die Waferbearbeitung. Das System ist in der Lage, 0,1 µm dick bis 3 mm in einer einzigen Schicht und bis zu 4,0 mm in zwei Schichten Photolack zu beschichten. Damit eignet sich das Gerät für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Sensoren und MEMS-Bauelementen. Die Maschine besteht aus einem modularen mechanischen Rahmen, einem Photolackspender, einer hochpräzisen Düse, mehrachsigen servogesteuerten Drehscheiben, Steuersystemen und einem Waferhalter. Der mechanische Rahmen gewährleistet eine hohe Genauigkeit über große Flächen, und die Drehscheiben bewegen den Waferhalter und ermöglichen präzise Beschichtungsbewegungen in jeder Orientierung. Darüber hinaus bietet das Steuerwerkzeug eine genaue und wiederholbare mehrachsige Bewegung durch verschiedene Auflösungen und ermöglicht eine präzise Beschichtungssteuerung. Der Photolackspender arbeitet auf Basis einer Kette und einer pneumatischen Anlage und kann mehrere Photolacke gleichzeitig in die Düse einspritzen, um eine Mehrschichtung zu ermöglichen. Dies hilft, die Geschwindigkeit des Beschichtungsprozesses zu erhöhen und gleichzeitig Verschwendung zu minimieren. Der Spender hält auch bis zu acht Kanister Photolack, so dass schnelle und einfache Wechsel zwischen den Anwendungen. Die Präzisionsdüse wurde entwickelt, um eine konsistente Abdeckung, minimale Defekte und eine hervorragende Schichtgleichförmigkeit über den Wafer zu gewährleisten. Es ist auch entworfen, um geringe Turbulenzen zu gewährleisten, die Feature-Defekte und photoakustische Emissionen verhindern hilft. Die Düse ist hoch einstellbar und kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Beschichtungsparametern einzustellen, einschließlich Strukturierung und Photolackviskosität. DNS SDW-80A-AVP ist ein zuverlässiges und effizientes Photoresist-Beschichtungsmodell, das für eine Vielzahl von Wafer-Fertigungsanwendungen geeignet ist. Diese Ausrüstung bietet hervorragende Leistung und ist in der Lage, wiederholbare, qualitativ hochwertige Ergebnisse in kurzer Zeit zu liefern. Mit seiner hohen Geschwindigkeit, Präzision und Vielseitigkeit ist dieses System eine gute Wahl für alle Anforderungen an die Waferbearbeitung.
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