Gebraucht DNS / DAINIPPON SD-W80A-AVQ #9274815 zu verkaufen

ID: 9274815
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Coater system, 8" 1996 vintage.
DNS/DAINIPPON SD-W80A-AVQ ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Entwicklung hochgenauer präzisionsgemusterter Oberflächen entwickelt wurde. Das System basiert auf einem direkten Abbildungsverfahren, bei dem lichtempfindliche Verbindungen, sogenannte Photoresists, verwendet werden, um gewünschte Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Die Einheit besteht aus einer LED-Belichtungseinheit, einem Vakuumfutter zur Aufnahme der Probe und einer Steuereinheit. Die LED-Belichtungseinheit besteht aus einem LED-Array mit einer maximalen Leistung von 4800mW gekoppelt an eine Linsenmaschine. Das Tool verwendet ein hochauflösendes Hochleistungs-Array mit einer Vielzahl von Leistungseinstellungen, die eine präzise Steuerung der Belichtungszeit ermöglichen. Das Vakuumfutter hat einen flachen Boden mit einem Radius von 250 mm, wodurch die Probe während des Bildgebungsprozesses sicher befestigt werden kann. Sobald die Probe vorhanden ist, kann die Steuereinheit verwendet werden, um die Belichtungseinstellungen einzustellen und den Ausgang des LED-Arrays zu steuern. Die im Asset verwendeten Photoresists enthalten ein Monomer, das bei Belichtung mit dem von den LEDs emittierten Licht einem Photopolymerisationsprozess unterzogen wird. Dieses Verfahren bildet über der Oberfläche des Substrats einen unlöslichen Polymerfilm, wodurch das gewünschte Muster entsteht. Das Modell bietet eine breite Palette von Einstellungen für Post-Exposure Bake, so dass eine präzise Steuerung des Polymerisationsprozesses. DNS SD W80A AVQ ist eine ideale Ausrüstung für diejenigen, die hochgenaue, präzise gemusterte Oberflächen schaffen müssen. Seine hochauflösende LED-Array und Kontrollsystem machen es einfach, genaue und konsistente Muster zu erzeugen, während seine breite Palette von Post-Exposure-Bake-Einstellungen es Benutzern ermöglichen, den Photopolymerisationsprozess anzupassen. Als Ergebnis ist die Einheit eine ausgezeichnete Wahl für die Arbeit mit Photoresists bei der Schaffung von komplizierten, fein detaillierten Oberflächen.
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