Gebraucht DNS / DAINIPPON SD-W80A-AVQ #9373065 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SD-W80A-AVQ ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Lithographie-Musterung. Es ist ein Vollfeldausrichtungssystem für Photomasken, bestehend aus einem 157nm DUV (Deep Ultraviolet) Laser, der die Fähigkeit hat, mehrere Ebenen von dielektrischen und leitenden Schichten zu strukturieren. Es verwendet Schrittmotortechnologie, um hohe Präzision und Genauigkeit bei der kritischen Ausrichtung und Belichtung zu erreichen. Dieses Gerät bietet hochwertige und fortschrittliche Funktionen wie eine fortschrittliche Laserscanner-Maschine, ein Servo-Steuerwerkzeug für den Belichtungsfokus, ein Vakuumfutter und eine Photomaske mit großer Auflösung. Die Anlage ist in der Lage, eine Vielzahl von Mustern wie Quarz/Glas, Silber, Oxid und ITO-Schichten zu produzieren. Es verwendet eine kurze Wellenlänge 157nm DUV-Lichtquelle, um die Photomaske direkt auf den Wafer zu belichten. Diese kurze Wellenlänge bietet ein Substrat höherer Auflösung, um kompliziertere Maskenmuster zu erzeugen. Das Modell hat ein Vakuumfutter, das die Fotomaske während der Belichtung hält. Es verwendet Schrittmotortechnologie, um die Fotomaske auf dem Futter genau auszurichten und für die Belichtung genau zu positionieren. Diese Technologie trägt dazu bei, dass mehrere Ebenen von Mustern genau auf jedem Wafer platziert werden können, wodurch Lithographiemuster erzeugt werden, die mit denen vergleichbar sind, die in der Produktionsumgebung produziert werden. Die Ausrüstung bietet auch überlegene Bildtreue und Wiederholbarkeit. Dies wird durch den Einsatz eines ausgeklügelten Belichtungssteuerungssystems und Fokus-Servos erreicht, die dazu beitragen, dass die Exposition über mehrere Expositionen hinweg einheitlich und wiederholbar ist. DNS SD W80A AVQ ist eine zuverlässige und leistungsstarke Photoresist-Einheit, die überlegene Genauigkeit und Präzision bietet, um mehrere Ebenen von Lithographiemustern mit mehr Treue und Wiederholbarkeit zu erstellen. Es eignet sich hervorragend für fortschrittliche Lithographieanwendungen in der Halbleitermusterung und fortschrittlichen RSFV-Lithographie.